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J-GLOBAL ID：201202207106238929   整理番号：12A1229519

rfマグネトロンスパッタリングZnO:Al薄膜特性に及ぼすrf出力影響

Effect of rf power on the properties of rf magnetron sputtered ZnO:Al thin films

著者 (2件)： SAAD M. (Atomic Energy Commission of Syria, P.O. Box 6091, Damascus, Syria) ,  KASSIS A. (Atomic Energy Commission of Syria, P.O. Box 6091, Damascus, Syria)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 136  号： 1  ページ： 205-209  発行年： 2012年09月14日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： rfマグネトロンスパッタリングを利用し,アルミニウム添加酸化亜鉛ZnO:Al薄膜を調製した。室温,低圧下,P=50~500Wでrf出力を変更し,調製を行った。rf出力に依存する構造/電気/光学膜特性を研究した。膜の構造,シート抵抗,光透過率間の相関に特に注目した。最大結晶サイズを持つ膜が,最高透過率を示したが,最低電気抵抗率は示さなかった。本調査結果の説明は,膜に組入れたAl原子の量,それらが占める位置,次にrf出力と関連するパラメータの面から,求められる。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *出力 ,  *RFスパッタリング ,  *マグネトロンスパッタリング ,  *酸化亜鉛 ,  *ドーパント ,  *アルミニウム ,  *薄膜 ,  *構造特性 ,  *電気特性 ,  *光学的性質 ,  膜構造 ,  シート抵抗 ,  透過率 ,  相関 ,  結晶粒径 ,  電気抵抗率
準シソーラス用語： *RF出力 ,  *光学特性 ,  光透過率

分類 (3件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

タイトルに関連する用語 (5件)： RFマグネトロンスパッタリング ,  ZnO ,  Al ,  膜特性 ,  RF出力