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J-GLOBAL ID:201202207720948100   整理番号:12A1444968

2重SRO膜:MOS類似構造の光電特性の研究

Twofold SRO films: Investigation of the photoelectric properties of MOS-like structures
著者 (6件):
資料名:
巻: 186  ページ: 178-183  発行年: 2012年10月 
JST資料番号: B0345C  ISSN: 0924-4247  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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2重SRO膜の光学的および電気的特性を解析した。活性層として,2重SRO(シリコンリッチ酸化物)膜を持つMOS類似構造を製作した。この2重SRO層は,シリコン基板を活性SRO層から絶縁するために,シリコンリッチおよび近化学量論的シリコン酸化物から構成されている。この素子は,種々の照明条件の下での伝導度が高められる。結果は,全ての構造は,光に照らされると暗状態より高い電流が流れる。この光電効果の適用可能性は,光検出器およびシリコン太陽電池の応答の増強である。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
分類
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金属-絶縁体-半導体構造  ,  光伝導,光起電力 
タイトルに関連する用語 (4件):
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