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J-GLOBAL ID：201202207966117096   整理番号：12A1718277

ガラスとFTOコーティングしたガラスに噴霧熱分解堆積させた硫化銅ナノ構造薄膜の比較研究

Comparative studies of spray pyrolysis deposited copper sulfide nanostructural thin films on glass and FTO coated glass

著者 (3件)： ADELIFARD Mehdi (Shahrood Univ. of Technol., Dep. of Physics, 316-36155, Shahrood, IRN) ,  ESHGHI Hosein (Shahrood Univ. of Technol., Dep. of Physics, 316-36155, Shahrood, IRN) ,  MOHAGHEGHI Mohamad Mehdi B. (Damghan Univ., School of Physics, Damghan, IRN)
資料名： Bulletin of Materials Science  (Bulletin of Materials Science)
巻： 35  号： 5  ページ： 739-744  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： T0142A  ISSN： 0250-4707  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： インド (IND)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Cu/Sモル比が0.33~0.43のCu_xS薄膜をガラスとFTOコーティングしたガラスに酢酸銅(II)とチオ尿素の水溶液を用いて基板温度285°Cで噴霧熱分解法により堆積させた。試料の構造,表面形態,光学的,電気的性質をXRD,FESEM,UV-visとPL分光光度計及び4端子法で各々特性評価した。X線回折から,層/ガラス試料はCuS(コベライト)結晶相を示したが,層/FTO試料は更にCu₂S(カルコサイト)とCu_1.8S(ダイジェナイト)の二つの相を含んでいた。光学的測定から,全ての材料は可視領域で比較的高い吸収係数(~5×10⁴~2.3×10⁵cm^-1)を示し,層の直接的バンドギャップを対応する室温PLスペクトルで確認した。室温とより高い温度(~100°C)での抵抗測定から,全ての試料は~10³(Ω・cm)^-1の高い電気伝導度を示した。Copyright 2012 Indian Academy of Sciences Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *硫化銅 ,  *ナノ構造 ,  *超薄膜 ,  基板 ,  *酸化スズ ,  *フッ素 ,  ドーピング ,  *熱分解 ,  結晶構造 ,  形態 ,  表面構造 ,  相組成 ,  硫化鉱物 ,  輝銅鉱 ,  硫化鉱 ,  *吸収係数 ,  光吸収 ,  光学ギャップ ,  発光スペクトル ,  光ルミネセンス ,  電気伝導率 ,  *半導体薄膜 ,  噴霧 ,  堆積 ,  *フォトニックバンドギャップ ,  セラミック膜 ,  ウレア化合物 ,  有機硫黄化合物 ,  *ナノシート
準シソーラス用語： *FTO ,  *ガラス基板 ,  コベライト ,  ダイジェナイト ,  *ナノ薄膜 ,  *光吸収係数 ,  表面形態 ,  *噴霧熱分解

分類 (3件)： 半導体薄膜  (BK14040E) ,  塩  (CD01050V) ,  ガラスの製造  (YC02020O)

物質索引 (2件)： チオ尿素 ,  酢酸銅

タイトルに関連する用語 (9件)： ガラス ,  FTO ,  コーティング ,  噴霧熱分解 ,  堆積 ,  硫化銅 ,  ナノ構造 ,  薄膜 ,  研究