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J-GLOBAL ID：201202208000946831   整理番号：12A0550291

CMCより低い濃度のCTAB水溶液に接触しているシリコンウエハの走査

Scanning of Silicon Wafers in Contact with Aqueous CTAB Solutions below the CMC

著者 (2件)： LUEDERITZ Liset A. C. (Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU) ,  VON KLITZING Regine (Technische Univ. Berlin, Berlin, DEU)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 28  号： 7  ページ： 3360-3368  発行年： 2012年02月21日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 0.05mMから1mM(CMC)までのヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド(CTAB)に対向する親水性のシリコンウエハについて研究した。AFM測定から0.4mMまでの濃度ではナノバブルが生成するが,0.5mM以上ではナノバブルは検出されなかった。この結果は界面活性剤凝集体が疎水性ドメインを形成し,0.5mM近傍で全体として親水性となるとして説明された。ナノバブルの高い接触角は,ナノバブルが界面活性剤ドメイン上に位置していることを示唆する。AFMにより界面活性剤パッチが表面にナノバブルを介して吸着していることが明らかにされた。ナノバブルは30から60nmの直径をもち,これは約30atmのLaplace圧に相当する。

シソーラス用語： *気泡 ,  *臨界ミセル濃度 ,  *原子間力顕微鏡 ,  凝集体 ,  接触角 ,  親水性 ,  脂肪族アミン ,  第四アンモニウム
準シソーラス用語： シリコンウエハ ,  *ナノバブル

分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  膜流,液滴,気泡,キャビテーション  (BC02070U)

物質索引 (1件)： ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド

タイトルに関連する用語 (5件)： CMC ,  CTAB ,  水溶液 ,  シリコンウエハ ,  走査