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J-GLOBAL ID：201202208237594972   整理番号：12A1222104

Si₃N₄のエンジニアリングセラミックスのレーザ表面処理の間の輝度の影響

The influence of brightness during laser surface treatment of Si₃N₄ engineering ceramics

著者 (2件)： SHUKLA Pratik P. (Tongji Univ., Coll. of Mechanical Engineering, Jiading Campus, 4800 Cao An Road, Shanghai 2001804, CHN) ,  LAWRENCE Jonathan (Univ. of Lincoln, Lincoln School of Engineering, Brayford Pool, Lincoln LN6 7TS, GBR)
資料名： Optics and Lasers in Engineering  (Optics and Lasers in Engineering)
巻： 50  号： 12  ページ： 1746-1751  発行年： 2012年12月 
JST資料番号： A0602B  ISSN： 0143-8166  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si₃N₄のエンジニアリングセラミックの表面処理において,ファイバレーザとNd:YAGレーザの比較研究を行い,レーザ光の輝度の寄与を研究した。ファイバレーザとNd:YAGレーザを用い,工程パラメータを同一にした。レーザ照射したSi₃N₄のエンジニアリングセラミックにおいて,微細構造と寸法の変化に及ぼすレーザ光の輝度の効果を研究した。この結果,レーザ加工パラメータが同一の場合でも,二つのレーザで処理した表面の微細構造と寸法が変化することを示した。これは,単位領域当たりの生成パワーとしてNd:YAGレーザとファイバレーザを比較した場合,二つのレーザビームの輝度の相違に起因した。このために,レーザ-Si₃N₄界面において,相互作用温度が高く,融解プールとファイバレーザ-セラミック相互作用ゾーンが大きくなることが分かった。これにより,Si₃N₄のエンジニアリングセラミックの物理的属性が変化した。高輝度レーザを利用したレーザ表面処理は,低輝度レーザと同じ表面を処理する場合,低輝度を利用した場合に比べて,原価的に有効であることが分かった。したがって,高輝度レーザを利用したセラミックスなどの材料の処理は,経済的な利点があることが分かった。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *エンジニアリングセラミック ,  Nd-YAGレーザ ,  プロセスパラメータ ,  ファイバレーザ ,  レーザビーム ,  レーザ加工 ,  *レーザ照射 ,  室温 ,  温熱環境 ,  *表面処理 ,  *窒化ケイ素 ,  放射輝度 ,  微細構造
準シソーラス用語： *レーザ表面処理 ,  工程パラメータ ,  作用温度

分類 (3件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (4件)： Si3N4 ,  エンジニアリングセラミックス ,  レーザ表面処理 ,  輝度