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J-GLOBAL ID：201202208256030508   整理番号：12A1228304

アゾベンゼン共重合体膜へのサブミリ秒域光パルスのみによる書き込み

All-optical pulsed writing in azobenzene copolymer films in the sub-millisecond regime

著者 (7件)： MENGHETTI Sara (Universita di Pisa, Pisa, ITA) ,  ALDERIGHI Michele (Universita di Pisa, Pisa, ITA) ,  GALLI Giancarlo (Universita di Pisa, Pisa, ITA) ,  TANTUSSI Francesco (Universita di Pisa, Pisa, ITA) ,  MORANDINI Massimo (Universita di Pisa, Pisa, ITA) ,  FUSO Francesco (Universita di Pisa, Pisa, ITA) ,  ALLEGRINI Maria (Universita di Pisa, Pisa, ITA)
資料名： Journal of Materials Chemistry  (Journal of Materials Chemistry)
巻： 22  号： 29  ページ： 14510-14517  発行年： 2012年08月07日 
JST資料番号： W0204A  ISSN： 0959-9428  CODEN： JMACEP  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 光で短時間に単一ビットが書き込める感光性高分子を合成した。4-ペントキシ-3′-メチル-4′-((6-メタクリロイルオキシ)ヘキシルオキシ)アゾベンゼン(MA4)とメタクリル酸メチル(MMA)の単量体を共重合した。MA4は光感受性メソゲンで,MMAは透明でメソゲンでない。直線偏光のパルスで局所複屈折の微視的変化による共重合体膜への書き込みを検討した。MA4を10mol%含むブロック共重合体は成分配列が異なるランダム共重合体に比べ,短く強い100μsのパルスで顕著な複屈折増大を起せる。この変化は数日間安定に残留する。液晶にならないランダム共重合体では光書き込みの効率も安定性も悪い。

シソーラス用語： *感光性高分子 ,  *アゾ化合物 ,  *芳香族化合物 ,  共重合 ,  *ジブロック共重合体 ,  ランダム共重合体 ,  感受性 ,  光異性化 ,  メソゲン ,  高分子膜 ,  複屈折 ,  パターン形成 ,  部分照射 ,  歪 ,  直線偏光 ,  *光パルス ,  ビット ,  *データ書込 ,  効率 ,  安定性 ,  反応速度 ,  脂肪族カルボン酸 ,  オレフィン化合物 ,  不飽和カルボン酸 ,  カルボン酸エステル
準シソーラス用語： *アゾベンゼン誘導体 ,  局所歪 ,  光感受性 ,  *超短パルス ,  微細パターン形成

分類 (2件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

物質索引 (2件)： メタクリル酸メチル ,  メタクリル酸6-(4′-ペントキシ-3-メチルアゾベンゼン-4-イルオキシ)ヘキシル

タイトルに関連する用語 (6件)： アゾベンゼン ,  共重合体膜 ,  サブ ,  秒 ,  光パルス ,  書き込み