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J-GLOBAL ID:201202208788048103   整理番号:12A0965120

回転基板上へのシリコンシートの形成

Formation of Silicon Sheet on a Rotating Substrate
著者 (6件):
資料名:
巻: 12  号:ページ: 3233-3236  発行年: 2012年04月 
JST資料番号: W1351A  ISSN: 1533-4880  CODEN: JNNOAR  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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スピン鋳造プロセスによりシリコンシートを作製する方法を提案し,シート厚を制御するプロセスパラメータを研究した。スピン鋳造を通して作製するシートの厚みは相対遠心力に逆比例することが分った。シリコンの流動性と凝固挙動を数値シミュレーションにより調べ,スピン鋳造により矩形シートが作成できると予測し,これを実験により確かめた。形成したシートには長い柱状構造が観測された。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
分類
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半導体の結晶成長 
タイトルに関連する用語 (2件):
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