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J-GLOBAL ID：201202209570210193   整理番号：12A1520553

パリレンフォトレジストの蒸着 化学的および形態的に規定されたバイオ界面を目指す多点アプローチ

Vapor-Deposited Parylene Photoresist: A Multipotent Approach toward Chemically and Topographically Defined Biointerfaces

著者 (5件)： WU Mu-Gi (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  HSU Hung-Lun (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  HSIAO Kai-Wen (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  HSIEH Chih-Chen (National Taiwan Univ., Taipei, TWN) ,  CHEN Hsien-Yeh (National Taiwan Univ., Taipei, TWN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 28  号： 40  ページ： 14313-14322  発行年： 2012年10月09日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 4-置換[2,2]パラシクロファンと[2,2]パラシクロファンの共蒸着により官能化パリレン薄膜を形成した。石英結晶微量天秤により膜厚を測定した。ポリ(4-ベンゾイル-p-キシリレン-co-p-キシリレン)膜(A)は紫外線照射により架橋を生じた。ポリ(4-ホルミル-p-キシリレン-co-p-キシリレン)膜(B)上にA膜を積層し,Aをフォトレジストとして紫外線照射/アセトン現像によりBパターンを形成した。さらにポリ(4-エチニル-p-キシリレン-co-p-キシリレン)膜(C)を積層して三層パターン構造を形成した。Alexa Fluor-555アジドとC表面の1,3-双極性環状付加反応(X),またはAlexa Fluor-350ヒドラジドとB表面のヒドラゾン生成反応(Y)により蛍光標識化表面を作製した。Aパターン化表面上にポリ(4-ホルミル-p-キシリレン-co-4-エチニル-p-キシリレン-co-p-キシリレン)共重合体膜(D)を積層し,X,Y反応によりマルチ官能化表面を作製した。IRASにより反応を観測し,偏光解析,走査電子顕微鏡によりキャラクタリゼーションを行った。スピンコーティング法に比べて三次元官能化表面を容易に作製でき,置換基(アミン,ベンゾイル,ホルミル,アセチレン)種により多様なバイオ官能化が可能であることを強調した。

シソーラス用語： *ポリキシリレン ,  *フォトレジスト ,  *蒸着 ,  *複合材料 ,  *界面 ,  置換基効果 ,  同時蒸着 ,  *官能化 ,  薄膜 ,  微量天秤 ,  膜厚 ,  ベンゾイル基 ,  紫外線照射 ,  架橋【高分子】 ,  ホルミル基 ,  積層構造 ,  *パターン形成 ,  アルキニル化 ,  ヒドラジド ,  アジド ,  環状付加 ,  ヒドラゾン ,  蛍光標識 ,  赤外反射吸収分光法 ,  偏光解析法 ,  走査電子顕微鏡
準シソーラス用語： IRAS ,  エチニル化 ,  *バイオ複合材料 ,  パリレン類 ,  共蒸着 ,  石英結晶微量天秤 ,  偏光解析

分類 (4件)： 高分子と低分子との反応  (CG03020L) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  生物科学研究法一般  (EA03010K)

タイトルに関連する用語 (5件)： 蒸着 ,  化学 ,  形態 ,  規定 ,  界面