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J-GLOBAL ID：201202209647373996   整理番号：12A1446020

オーバーレイ制御方式の比較:フィールドバイフィールドと高次元法

Overlay control methodology comparison: field-by-field and high-order methods

著者 (9件)： HUANG Chun-Yen (Nanya Technol. Corp., New Taipei County) ,  CHIU Chui-Fu (Nanya Technol. Corp., New Taipei County) ,  WU Wen-Bin (Nanya Technol. Corp., New Taipei County) ,  SHIH Chiang-Lin (Nanya Technol. Corp., New Taipei County) ,  HUANG Chin-Chou Kevin (KLA-Tencor Corp., CA, USA) ,  HUANG Helthy (KLA-Tencor Taiwan, Hsinchu County, TWN) ,  CHOI DongSub (KLA-Tencor Korea, Gyeonggi-do, KOR) ,  PIERSON Bill (KLA-Tencor Corp., CA, USA) ,  ROBINSON John C. (KLA-Tencor Corp., CA, USA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8324  号： Pt.2  ページ： 832427.1-832427.9  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 最新のリソグラフィーの増加する問題点および減少する許容オーバーレイ誤差バジェットは,長年,標準とされていた線形オーバーレイモデリングを越えることが要求されている。本稿では,フィールドバイフィールド制御(FxFc)と組合せた高次元制御(HOC)は,4nmオーバーレイ仕様を達成する4っの評価法の内で最も有効な計測法であることを示した。線形制御は,4nmオーバーレイ仕様に適合しなかった。高次元のみ,あるいはFxFcをもつ線形法は,どちらも仕様に適合不十分であった。FxFcのためのプロセスシグネチャ不確実性(PSU)を,フィールドバイフィールド修正効率を評価するのに導入した。プロセスシグネチャから高次元部分を除いた高次元制御を用いることにより,FxFcは,線形ベースFxFc法より有効であることを明らかにした。

シソーラス用語： *オーバレイ【計算機】 ,  制御方式 ,  モデリング ,  *リソグラフィー ,  高次元 ,  不確実性 ,  *プロセス制御 ,  線形制御系 ,  行為 ,  現場 ,  過程
準シソーラス用語： シグネチャ ,  フィールド ,  プロセス

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： オーバーレイ ,  制御方式 ,  高次元