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J-GLOBAL ID：201202210323908976   整理番号：12A0042579

L1₀-FePtRh強磁性-反強磁性パターンの形状評価と磁気特性

Geometric and magnetic properties of L1₀-FePtRh ferromagnetic-antiferromagnetic pattern

著者 (2件)： 長谷川崇 (秋田大 大学院工学資源学研究科) ,  石尾俊二 (秋田大 大学院工学資源学研究科)
資料名： 電子情報通信学会技術研究報告  (IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 111  号： 307(MR2011 19-24)  ページ： 27-30  発行年： 2011年11月11日 
JST資料番号： S0532B  ISSN： 0913-5685  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 現在様々なドットパターン作製法が検討されているが,エッチングによるドットの加工ダメージや,それに伴う表面酸化層の形成,埋戻し/表面研磨による結晶歪みの導入などの課題がある。そこで本研究では,原理的にダメージ相の生じない新規なパターニング法を開発することを考えた。[001]垂直配向したL1₀-FePtRh薄膜では,強磁性(FM)相と反強磁性(AF)相が1at%以内の組成変化で急峻に変化する。この変化を用いれば,例えばFePtRh連続膜上に第三元素をナノスケールで部分的に配置し,それを拡散させて組成を局所的に制御することで,FM相とAF相からなるドットパターンを形成できると考えた。この場合には,最終的な形状的加工と埋戻し/表面研磨の工程が必要無いことから,ドットには加工ダメージが原理的に存在しないことが期待される。本論文では,この効果を用いて実際にナノドット配列パターンを作製し,さらに形状分散と磁気特性のバラツキとの関連性について議論する。(著者抄録)

シソーラス用語： 磁気ディスク ,  磁気転移 ,  拡散 ,  *ナノ構造 ,  解析 ,  *磁気的性質 ,  鉄化合物 ,  白金化合物 ,  ロジウム化合物 ,  金属間化合物 ,  *L10型金属間化合物 ,  *強磁性-反強磁性転移 ,  *原子拡散
準シソーラス用語： *ビットパターンメディア ,  *形状解析

分類 (1件)： 記憶装置  (JC04060F)

タイトルに関連する用語 (4件)： 強磁性 ,  反強磁性 ,  評価 ,  磁気特性