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J-GLOBAL ID:201202210430823355   整理番号:11A1977114

CVDZnSにおける六方晶系の形成機構と拘束方法

Form mechanism and restrain method of hexagonal in CVDZnS
著者 (6件):
資料名:
巻: 39  号:ページ: 1100-1104  発行年: 2010年 
JST資料番号: C2521A  ISSN: 1007-2276  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 中国 (CHN)  言語: 中国語 (ZH)
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六方晶系ZnSは光学的異方であり,異なる方向では異なる屈折率を有した。六方相は,立方晶系CVDZnSの不純物相として,立方晶系CVDZnSの光学品質に損傷を与える入射光の散乱を増加した。本論文では,種々の実験パラメータを使って六方相の形成機構を考察して,分析した。六方晶相の形成が3つの製造パラメータ(蒸着温度,Zn/H2Sと蒸着圧力)に影響されることを証明した。適切に蒸着温度,Zn/H2Sを増加して,蒸着圧力を低下することによって,六方晶系Znの形成を抑制し,不純物相のない等方性の立方晶系CVDZnSを形成した。六方相のない試験片は,特に単波長赤外線と中波長赤外線において赤外透過率がより高かった。Data from the ScienceChina, LCAS. Translated by JST
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物理学一般 
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