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J-GLOBAL ID:201202210505966050   整理番号:12A0146728

Si(111)上にPAMBE成長したInN層の微細構造

Microstructure of PAMBE-grown InN layers on Si(111)
著者 (13件):
資料名:
巻: 340  号:ページ: 34-40  発行年: 2012年02月01日 
JST資料番号: B0942A  ISSN: 0022-0248  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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Si(111)基板とAlN緩衝層に,プラズマ支援分子線エピタキシーによって成長したInN層の微細構造を調査した。325°Cと375°Cの間の基板温度で,他は同一条件で,厚さ約500nmのInN層を堆積した。走査型電子顕微鏡法,並びに,選択領域電子線回折,電子エネルギー損失分光法およびエネルギー分散型X線分光法を備えたさまざまな透過型顕微鏡法によって,構造の特性化を行った。InN層の微細構造は,成長温度の比較的狭い区間であっても大幅に変化した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (1件):
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半導体薄膜 
タイトルに関連する用語 (3件):
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