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J-GLOBAL ID:201202210850639177   整理番号:12A0739007

表面の粗さの小さい(100)ダイヤモンドエピ層における高濃度の置換型燐

High fraction of substitutional phosphorus in a (100) diamond epilayer with low surface roughness
著者 (8件):
資料名:
巻: 100  号: 19  ページ: 192109-192109-4  発行年: 2012年05月07日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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高出力のエレクトロニクスへの応用という観点から,置換型ドナーとして燐を含むダイヤモンドは有望な半導体材料である。しかし,現在まで,(100)配向したダイヤモンドの置換型格子点には,少しの量(<30%)の燐原子しか混入せず,エピタキシャル面には多くのマクロステップが観測される。置換型格子点に100%の燐が混入した燐ドープの(100)ダイヤモンドのエピタキシャル層を示す。薄膜の表面の粗さは,非常に小さい(RMS=0.5nm)ことが分かった。作製したエピタキシャル層は導電性(300Kにおいて,ρ=5.0×10<sup>6</sup>Ω・cmである)を示し,赤外吸収によって中性の燐が検出された。(翻訳著者抄録)
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
半導体の格子欠陥  ,  半導体薄膜 

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