文献

J-GLOBAL ID：201202210930861539   整理番号：12A1328927

ヒドラジン1塩酸触媒を用いたゾル-ゲル法により合成された低フラクタル次元の高分子前駆体からの高屈折率アモルファス酸化チタン薄膜の創製

Creation of High-Refractive-Index Amorphous Titanium Oxide Thin Films from Low-Fractal-Dimension Polymeric Precursors Synthesized by a Sol-Gel Technique with a Hydrazine Monohydrochloride Catalyst

著者 (4件)： SHIMIZU Wataru (Shinshu Univ., Nagano, JPN) ,  NAKAMURA Satoshi (Shinshu Univ., Nagano, JPN) ,  SATO Takaaki (Shinshu Univ., Nagano, JPN) ,  MURAKAMI Yasushi (Shinshu Univ., Nagano, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 28  号： 33  ページ： 12245-12255  発行年： 2012年08月21日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高い屈折率(n~2.1)および透明性を有するアモルファス酸化チタン(TiO₂)薄膜を,弱い分岐のある高分子構造をもつ液状の酸化チタン前駆体のスピンコーティングにより作製した。前駆体溶液は,塩触媒としてヒドラジン1塩酸による触媒的ゾル-ゲル法をとおしチタンテトラn-ブトキシド(TTBO)から調製した。この独特な方法により,部分的に加水分解を受けたアルコキシドの重縮合反応が加速され,低いフラクタル次元約5/3をもつ線状高分子状の酸化チタン凝集体の形成を促進する。このような線状高分子形状がボイドの形成を避け高密度アモルファスTiO₂薄膜の生成に不可欠なものである。高屈折率(n=2.064;λ=633nm,60°C)の透明な薄膜の作製に成功した。

シソーラス用語： ヒドラジン誘導体 ,  スピンコーティング ,  前駆体 ,  ゾル-ゲル法 ,  *酸化チタン ,  *薄膜 ,  *屈折率 ,  フラクタル次元 ,  *高屈折率

分類 (2件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

物質索引 (1件)： チタン(IV)テトラブトキシド

タイトルに関連する用語 (11件)： ヒドラジン ,  塩 ,  酸触媒 ,  ゾル-ゲル法 ,  フラクタル次元 ,  高分子 ,  前駆体 ,  高屈折率 ,  アモルファス ,  酸化チタン薄膜 ,  創製