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J-GLOBAL ID：201202211164263078   整理番号：12A0534698

OHラジカルにより開始されるナフタレンの大気的酸化機構 理論的研究

Atmospheric oxidation mechanism of naphthalene initiated by OH radical. A theoretical study

著者 (3件)： ZHANG Zhijie (South China Univ. Technol., Guangzhou, CHN) ,  LIN Ling (South China Univ. Technol., Guangzhou, CHN) ,  WANG Liming (South China Univ. Technol., Guangzhou, CHN)
資料名： Physical Chemistry Chemical Physics  (Physical Chemistry Chemical Physics)
巻： 14  号： 8  ページ： 2645-2650  発行年： 2012年02月28日 
JST資料番号： A0271C  ISSN： 1463-9076  CODEN： PPCPFQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ナフタレン(Nap)の酸化機構を,B3LYP及びBB1Kレベルの密度汎関数法により研究した。開始ステップはNapのC1位置へのOH付加により支配され,C10H8-1-OH(R1)を形成し,次いでC2位のO2付加が追従して,ペルオキシラジカルR1-2OOを形成する。大気中,R1-2OOhaNOと反応してR1-2Oを形成し,-OHから-OOへの分子内水素移動を起してR1-P2O1ラジカルを形成するか,またはR1-29OOビシクロラジカルへの移行も可能性がある。ほかのビシクロ中間ラジカルの形成は,極度に高いGibbsエネルギー障壁のため無視し得る。

シソーラス用語： *ヒドロキシルラジカル ,  *芳香族縮合炭化水素 ,  開始 ,  *空気酸化 ,  水素移動 ,  Gibbs自由エネルギー ,  障壁 ,  密度汎関数法 ,  ラジカル ,  ペルオキシド ,  ポリアセン
準シソーラス用語： エネルギー障壁 ,  OHラジカル

分類 (3件)： 非金属化合物  (CD01070R) ,  ナフタレン  (CF06020D) ,  酸化,還元  (CF02060T)

物質索引 (2件)： ナフタレン ,  ペルオキシラジカル

タイトルに関連する用語 (6件)： OHラジカル ,  ナフタレン ,  大気 ,  酸化機構 ,  理論 ,  研究