文献

J-GLOBAL ID：201202211495812195   整理番号：12A1650140

走査アプリケーション用の高帯域幅電磁MEMS走行ステージ

A high-bandwidth electromagnetic MEMS motion stage for scanning applications

著者 (8件)： CHOI Young-Man (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  CHOI Young-Man (Y.-M. Choi was at the National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  CHOI Young-Man (Korean Inst. for Machinery and Materials, Daejeon, KOR) ,  GORMAN Jason J (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  DAGALAKIS Nicholas G (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  YANG Seung Ho (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  KIM Yongsik (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA) ,  YOO Jae Myung (National Inst. of Standards and Technol., MD, USA)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 22  号： 10  ページ： 105012,1-9  発行年： 2012年10月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 走査電子顕微鏡やデータストレージの読出し/書込みヘッドのような微小アプリケーションでは高精度で安定な走行ステージが必須である。本稿では,走査アプリケーション用のMEMS走行ステージの設計,製作と実験結果を報告した。電磁アクチュエーションと撓み支持プラットフォームにより高精度の双方向走行が得られる。SOIウエハのマイクロマシーニングと電気めっき法を使って銅マイクロコイルをシリコン基板上に製作した。製作した走行ステージの共振周波数は約2.0kHzで,500Hz以上のオープンループ制御帯域幅が得られた。±2.7μmの範囲で線形双方向走行が可能であることを実験により確認した。200Hzまでの走査速度に対して6.5nm RMS追跡誤差を示した。

シソーラス用語： *走査電子顕微鏡 ,  磁気ヘッド ,  位置決め装置 ,  MEMS ,  アクチュエータ ,  電磁気 ,  たわみ ,  SOI構造 ,  *マイクロマシニング ,  電気めっき ,  共振周波数 ,  コイル状体 ,  ウエハ【IC】
準シソーラス用語： *X-Yステージ ,  シリコン基板 ,  マイクロコイル ,  電磁アクチュエータ

分類 (2件)： 電子顕微鏡,イオン顕微鏡  (BD02050B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 走査 ,  アプリケーション ,  高帯域幅 ,  MEMS ,  ステージ