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J-GLOBAL ID：201202211721212740   整理番号：12A0809592

電着電位掃引速度によるZnO形態/構造/光学特性制御

ZnO morphological, structural and optical properties control by electrodeposition potential sweep rate

著者 (4件)： MATEI Elena (National Inst. of Materials Physics, Atomistilor St. 105 bis, 77125 Magurele, Ilfov, ROM) ,  ENCULESCU Monica (National Inst. of Materials Physics, Atomistilor St. 105 bis, 77125 Magurele, Ilfov, ROM) ,  PREDA Nicoleta (National Inst. of Materials Physics, Atomistilor St. 105 bis, 77125 Magurele, Ilfov, ROM) ,  ENCULESCU Ionut (National Inst. of Materials Physics, Atomistilor St. 105 bis, 77125 Magurele, Ilfov, ROM)
資料名： Materials Chemistry and Physics  (Materials Chemistry and Physics)
巻： 134  号： 2-3  ページ： 988-993  発行年： 2012年06月15日 
JST資料番号： E0934A  ISSN： 0254-0584  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 硝酸塩水溶液浴からITO/ガラス基板へZnO膜を電着させた。通常の定電位法でなく,種々の掃引速度で電位傾斜を利用し,本過程を行った。2つの方向,負電位方向(順方向)や正電位方向(逆方向)で,これらの傾斜をテストした。予想通り,異なる電着条件で調製したサンプルは,異なる形態,異なる品質の結晶構造,異なる光学特性を示した。逆方向傾斜を利用し,高品質構造/光学特性を持つ膜を調製した。これらの条件下で,成長結晶をエッチング過程(高欠陥濃度を持つ領域を優先的に除き,中空六方晶角柱生成を導く)に委ねることを想定した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,  *電着 ,  *薄膜 ,  硝酸塩 ,  水溶液 ,  酸化インジウムスズ ,  基板 ,  電気装置部品 ,  *移動 ,  *操作 ,  *速度 ,  電位 ,  傾斜 ,  *結晶形態 ,  *結晶構造 ,  *光学的性質 ,  エッチング ,  格子欠陥 ,  六方晶系 ,  角柱 ,  中空体
準シソーラス用語： ITO ,  ガラス基板 ,  *掃引 ,  *光学特性

分類 (4件)： 塩基,金属酸化物  (CD01030Z) ,  金属酸化物及び金属カルコゲン化物の結晶構造  (BK07020Y) ,  酸化物薄膜  (BK14050P) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電着 ,  電位 ,  掃引速度 ,  ZnO ,  形態 ,  光学特性