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J-GLOBAL ID：201202211834333188   整理番号：12A0610562

泡沫による固液界面付着気泡の除去機構

著者 (7件)： 山田喜康 (山田) ,  山田喜康 (東京農工大 大学院工学府) ,  藤沢洋佑 (東京農工大 大学院工学府) ,  菅原友浩 (東京農工大 大学院工学府) ,  古橋貴洋 (山田) ,  市原祥次 (東京農工大 大学院工学府) ,  臼井博明 (東京農工大 大学院工学府)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 63  号： 4  ページ： 266-268  発行年： 2012年04月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 電気めっきにおける不具合の一つに電解中に発生する気泡が原因のめっき表面のピンホール形成である。発生する気泡の除去に関する多くの処理が開発されているが,機構も含め十分に理解さているわけではない。本研究においては,ピンホール発生抑制に有効である著者等が開発した短時間寿命泡沫中での電気めっきにおける気泡除去機構を調べた。実験においては,モデルとしてガラス容器内で気泡と泡沫を衝突させ,その時の状況を高速度カメラで撮影し解析した。この実験から,泡沫が気泡を吸収し表面から除去する状況を把握することができた。

シソーラス用語： *電気めっき ,  気泡 ,  除去 ,  模型試験
準シソーラス用語： 泡沫

分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

引用文献 (8件)：

• 1) M. Monev, L. Mirkova, I. Krastev, Hr. Tsvetkova, St. Rashkov, W. Richtering ; J. Appl. Electrochem., 28, 1107 (1998).
• 2) W. L. Tsai, P. C. Hsu, Y. Hwu, C. H. Chen, L. W. Chang, J. H. Je, H. M. Lin, A. Groso, G. Margaritondo ; Nature, 417, 139 (2002).
• 3) P. -C. Hsu, S. -K. Seol, T. -N. Lo, C. -J. Liu, C. -L. Wang, C. -S. Lin, Y. Hwu, C. H. Chen, L. -W. Chang, J. H. Je, G. Margaritondo ; J. Electrochem. Soc., 155, D400 (2008).
• 4) H. Yoshida, M. Sone, A. Mizushima, K. Abe, X. T. Tao, S. Ichihara, S. Miyata ; Chem. Lett., 11, 1086 (2002).
• 5) H. Yoshida, M. Sone, A. Mizushima, H. Yan, H. Wakabayashi, K. Abe, X. T. Tao, S. Ichihara, S. Miyata ; Surf. Coat. Technol., 173, 285 (2003).

タイトルに関連する用語 (3件)： 泡沫 ,  固液界面 ,  気泡