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J-GLOBAL ID：201202212230329260   整理番号：12A1237651

ソーラグレードシリコンへの手段としてのスラグ処理と酸浸出

Slag Treatment Followed by Acid Leaching as a Route to Solar-Grade Silicon

著者 (6件)： METELEVA-FISCHER Yulia V. (Materials innovation institute (M2i), Mekelweg 2, 2628CD, Delft, NLD) ,  YANG Yongxiang (Delft Univ. of Technol., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Mekelweg 2, 2628CD, Delft, NLD) ,  BOOM Rob (Materials innovation institute (M2i), Mekelweg 2, 2628CD, Delft, NLD) ,  BOOM Rob (Delft Univ. of Technol., Dep. of Materials Sci. and Engineering, Mekelweg 2, 2628CD, Delft, NLD) ,  KRAAIJVELD Bert (RGS Dev. B.V., Bijlestaal 54, 1721 PW, Broek op Langedijk, NLD) ,  KUNTZEL Henk (RGS Dev. B.V., Bijlestaal 54, 1721 PW, Broek op Langedijk, NLD)
資料名： JOM  (JOM)
巻： 64  号： 8  ページ： 957-967  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： C0321A  ISSN： 1047-4838  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スラグ処理,制御冷却,および酸浸出の工程手順を用いた冶金級シリコンの精製について研究した。Na₂O-CaO-SiO₂系スラグを用いた。処理したシリコンの粒界の微細組織には不純物の偏析,およびCaSi₂や他のCaリッチ相の生成が観察された。スラグ処理後,シリコンの粒界にはホウ素とリンが存在し,酸浸出によりほとんどの金属不純物と共に除去に成功した。シリコンとスラグの相互作用および不純物分布について検討した。シリコンの微細組織と各精製過程における不純物の分析に基づき,精製法の新しいメカニズムを提案した。スラグ精製,偏析,および溶媒精製の並行処理が観察され,提案した精製法の比較的高い効率を説明できた。研究した精製プロセスと続く酸浸出の組合せは,冶金級シリコンからソーラグレードシリコンへの効率的で低コストのアップグレード法として可能性がある。Copyright 2012 The Author(s) Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ケイ素 ,  *非鉄製錬 ,  スラグ ,  浸出 ,  酸処理 ,  制御冷却 ,  太陽電池 ,  酸化ケイ素 ,  酸化ナトリウム ,  酸化カルシウム ,  微細構造 ,  不純物 ,  結晶粒界 ,  粒界偏析 ,  ホウ素 ,  リン ,  不純物分布 ,  相互作用 ,  反応機構 ,  走査電子顕微鏡 ,  相組成
準シソーラス用語： シリコン ,  微細組織

分類 (1件)： 精錬  (WD02040L)

タイトルに関連する用語 (2件)： スラグ ,  酸浸出