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J-GLOBAL ID：201202212248993523   整理番号：12A1439728

ハイエンドマスク製造用材料選択のクリーニング状況

Cleaning aspects of material choice for high end mask manufacturing

著者 (3件)： NESLADEK Pavel (Advanced Mask Technol. Center, Dresden, DEU) ,  OSBORNE Steve (Osborne Enterprise, Dresden, DEU) ,  RUEMMELIN Stefan (Advanced Mask Technol. Center, Dresden, DEU)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8352  ページ： 83520S.1-83520S.11  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Crアブソーバーを使ったバイナリマスク製造の後,材料の範囲はハーフトーン位相シフトマスク(HT-PSM)の導入で拡がった。最近,アブソーバの化学組成や厚さを変えた新しい材料がマスクブランクベンダーで開発されている。これらの材料は解像度,パターン忠実性,マスク寿命を改善している。表面材料の関数としてのクリーンプロセス性能を徹底的に調査すると欠陥,再汚染への敏感性や相対的クリーニング効率のようなクリティカルパラメータに大きなばらつきがある。COGマスクのためのクリーニングプロセスにたいしてBIM材料は違う応答をする。実験によってアブソーバー厚さがパターンダメージに影響するキーパラメータであることを確認した。石英基板上にデポジットしたアブソーバーの全マスクタイプでアブソーバーの組成はパターンダメージに対してわずかまたは全く影響しない。

シソーラス用語： 半導体プロセス ,  *フォトマスク ,  吸収体 ,  加工欠陥 ,  *洗浄 ,  *欠陥
準シソーラス用語： アブソーバ ,  フォトマスク欠陥 ,  マスクブランク ,  ハーフトーンPSM

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： マスク ,  製造用材料 ,  クリーニング ,  状況