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J-GLOBAL ID:201202212495384734   整理番号:12A1717323

二酸化ケイ素上の水およびn-アルコール共吸着のヒステリシスの減衰全反射赤外分光による研究

Attenuated Total Reflectance Infrared Spectroscopy Study of Hysteresis of Water and n-Alcohol Coadsorption on Silicon Oxide
著者 (2件):
資料名:
巻: 28  号: 44  ページ: 15529-15536  発行年: 2012年11月06日 
JST資料番号: A0231B  ISSN: 0743-7463  CODEN: LANGD5  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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大気圧下室温におけるn-プロパノール/水およびn-ペンタノール/水の蒸気混合物にさらされた二酸化シリコン上に形成された二成分系の吸着層の構造および厚みを,減衰全反射赤外分光法(ATR-IR)を用いて研究した。二成分系の吸着層において固体状の構造をもつ吸着水の量は,連続する水/アルコール蒸気組成の変化のサイクルにおける水の量より大きかったが,n-アルコールは吸着量のヒステリシスをほとんど示さなかった。固体状の水構造のヒステリシスは,水のみの吸着の場合に比べてアルコールと水の共吸着において増幅された。この挙動の原因はアルコール/水二成分系吸着層の構造に起因すると考えられる。吸着体/気相の界面に存在するn-アルコール分子が,系の表面エネルギーを低下させ二酸化シリコン上のアルコール/水二成分系吸着層における固体状の水を安定化させるものと思われる。
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分類 (2件):
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
固-気界面一般  ,  脂肪族アルコール 

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