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J-GLOBAL ID：201202213578436899   整理番号：12A1439380

液浸リソグラフィのための先進機能を有する高信頼性高出力ArFレーザ

A Reliable Higher Power ArF Laser with Advanced Functionality for Immersion Lithography.

著者 (13件)： KUROSU Akihiko (Gigaphoton Inc.) ,  NAKANO Masaki (Gigaphoton Inc.) ,  YASHIRO Masanori (Gigaphoton Inc.) ,  YOSHINO Masaya (Gigaphoton Inc.) ,  TSUSHIMA Hiroaki (Gigaphoton Inc.) ,  MASUDA Hiroyuki (Gigaphoton Inc.) ,  KUMAZAKI Takahito (Gigaphoton Inc.) ,  MATSUMOTO Shinichi (Gigaphoton Inc.) ,  KAKIZAKI Kouji (Gigaphoton Inc.) ,  MATSUNAGA Takashi (Gigaphoton Inc.) ,  OKAZAKI Shinji (Gigaphoton Inc.) ,  FUJIMOTO Junichi (Gigaphoton Inc.) ,  MIZOGUCHI Hakaru (Gigaphoton Inc.)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8326  号： Pt.2  ページ： 83261F.1-83261F.14  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 193nmArFエキシマレーザはセルフアラインダブルパターニング(SADP)のような先端フォトリソグラフィ技術で使われ続ける。このような技術を半導体の量産に使うための鍵はチップ製造コストである。従って,ArFエキシマレーザの信頼性,稼動率,保守性の改善が重要である。193nmArFエキシマレーザGT63Aのフォーカスドリリング技術はスペクトル帯域幅のチューニングで焦点深度(DoF)を改善した。フォーカスドリリングは孤立コンタクトホールのDoFを増やしながら,ウエハステージ速度を落とさない。そして,ガス再充填時間をゼロにする方法を導入した。レーザ発振の回数に比例して不純物がたまり出力が低下するのでガス再充填が必要になる。不純物をパルス発振回数にたいしてあるレベル以下に抑えることによってガス再充填時間を無くすことに成功した。

シソーラス用語： アルゴン化合物 ,  フッ化物 ,  *エキシマレーザ ,  回路パターン形成 ,  フォトリソグラフィー ,  浸漬 ,  スペクトルバンド ,  高出力レーザ ,  製造原価 ,  稼働率 ,  焦点深度 ,  半導体プロセス ,  装置
準シソーラス用語： *ArF ,  スペクトル帯 ,  ダブルパターニング ,  フォーカスドリリング ,  液浸 ,  *液浸リソグラフィー ,  製造コスト ,  半導体製造装置

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 液浸リソグラフィ ,  高信頼性 ,  高出力 ,  ArFレーザ