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J-GLOBAL ID：201202213624659369   整理番号：12A0164802

フィルムベースエレクトロニクス -プロセス,材料,設備の新しい融合による新しいデバイスの創出に向けて- フッ素系ドライコーティングの可能性

著者 (1件)： 福島和宏 (プロマティック)
資料名： コンバーテック  (Convertech)
巻： 40  号： 1  ページ： 71-73  発行年： 2012年01月15日 
JST資料番号： Y0873A  ISSN： 0911-2316  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： デュポン社が開発したポリテロラフルオロエチレン(登録商標テフロン)は,工業用途のみならず我々の生活にも必要不可欠な存在になっている。フッ素系材料の特徴と課題,各種のフッ素材料の構造(FEP樹脂,PFA樹脂,ポリフッ化ビニリデン,ポリフッ化ビニル),スッパタ法によるCF_x膜,CVD法によるCF_x膜,期待される用途と今後の方向性について概説した。フッ素系コーティングの用途として,低屈折光学材料,非Si系離型材料,燃料電池向け界面改良材が考えられ,今後も電池などの電気科学分野を中心に新たな応用展開が期待されると論じた。

シソーラス用語： *高分子膜 ,  *フッ素樹脂 ,  被覆 ,  固体素子 ,  ポリテトラフルオロエチレン ,  分子構造 ,  FEP樹脂 ,  PFA樹脂 ,  ポリフッ化ビニリデン ,  ポリフッ化ビニル ,  スパッタ蒸着 ,  薄膜成長 ,  化学蒸着 ,  用途開発 ,  光学材料 ,  屈折率 ,  離型剤 ,  表面被覆
準シソーラス用語： エレクトロニックデバイス

分類 (3件)： 高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  ハロゲン含有重合体  (YH07100Z)

引用文献 (2件)：

• 1) ウイキペデ守ア「フルオロカーボン」
• 2) ウィキペディア「ハイドロフルオロカーボン」

タイトルに関連する用語 (7件)： プロセス ,  設備 ,  融合 ,  創出 ,  フッ素 ,  コーティング ,  可能性