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J-GLOBAL ID：201202213701585810   整理番号：12A0569814

注目の高機能性フィルムの開発現況 ナノインプリントと新活用技術

著者 (1件)： 谷口淳 (東京理大 基礎工)
資料名： 化学装置  (Plant and Process)
巻： 54  号： 4  ページ： 105-109  発行年： 2012年04月28日 
JST資料番号： G0109A  ISSN： 0368-4849  CODEN： KASOB7  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノ金型を用いて樹脂へパターンを転写することをナノインプリントと呼ぶ。この技術のはじまりは,1995年にChou教授(現プリンストン大学)らが,半導体の露光プロセスの代替え技術として提案したときになる。これ以降,現時点においても半導体露光技術の次世代の候補技術として上がっており,また,ハードディスクドライブ(HDD)などへの展開も早くから検討されていた。上記のパターンサイズとしては,20nm未満のパターンを目指すことになるが,これより大きいパターンサイズでの応用例としては,反射防止構造フィルムの作製,光学素子,ワイヤーグリッド偏光子などが挙げられる。上記のパターンサイズとしては,50~300nmくらいであるが,反射防止構造フィルムやワイヤーグリッド偏光子などは,フラットパネルディスプレイ(FPD)用に使用することも視野に入れ,ロールトゥロールでのナノインプリント技術が開発されている。また,ワイヤーグリッド偏光子は,プラスチック上に金属細線をパターニングしたものであるが,このように,樹脂,プラスチックだけの構造から,金属等の異種材料から成るデバイスなどへの応用が広がっている。そこで,本稿では,最近のナノインプリント技術の開発例である,反射防止構造の作製,金属ナノ構造転写技術,およびRTRナノインプリント技術について概説した。産業界におけるナノインブリント技術とその動向,最近のナノインブリント技術開発の現状,ナノインブリントの新しい応用展開,今後の技術動向などについて解説した。

シソーラス用語： *機能性高分子 ,  技術開発 ,  *押付成形 ,  パターン形成 ,  微細加工 ,  *露光 ,  反射防止膜 ,  光学素子 ,  偏光子 ,  フラットパネルディスプレイ ,  生産方式 ,  金属線 ,  細線 ,  *プラスチックフィルム
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  ロール・ツー・ロール ,  ワイヤグリッド偏光子 ,  金属細線

分類 (2件)： 電気絶縁材料  (YH06020F) ,  撮影,現像,焼付け,引伸し  (ZA02030U)

タイトルに関連する用語 (5件)： 注目 ,  機能性フィルム ,  開発 ,  ナノインプリント ,  活用