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J-GLOBAL ID：201202213744253943   整理番号：12A0587669

3次元ハイブリッドPIC/MC法によるRPD装置内プラズマシミュレーション

著者 (6件)： 宮下大 (住友重機械工業 技研) ,  北見尚久 (住友重機械工業 技研) ,  酒見俊之 (住友重機械工業 技研) ,  青木康 (住友重機械工業 技研) ,  加藤隆典 (住友重機械工業 技研) ,  荒川義博 (東大)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集(CD-ROM)  (Extended Abstracts of the Spring Meeting, Japan Society of Applied Physics and the Related Societies)
巻： 59th  ページ： ROMBUNNO.16P-A7-5  発行年： 2012年02月29日 
JST資料番号： Y0054B  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *プラズマ装置 ,  *プラズマシミュレーション ,  ハイブリッドシミュレーション ,  透明導電膜 ,  蒸着膜 ,  *プラズマCVD ,  電子温度 ,  電位分布 ,  インジウム ,  モンテカルロシミュレーション ,  *計算機利用 ,  *利用
準シソーラス用語： PICシミュレーション ,  エネルギー分布関数 ,  *反応性プラズマ蒸着装置

分類 (2件)： プラズマ装置  (BJ02082I) ,  薄膜成長技術・装置  (BK14020I)

タイトルに関連する用語 (4件)： 3次元 ,  PIC ,  MC ,  プラズマシミュレーション