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J-GLOBAL ID：201202214251815949   整理番号：12A0929948

コヒーレント音響フォノン干渉測定を用いたTiO₂/SrTiO₃界面付近の照射損傷分布の特性

Characterization of irradiation damage distribution near TiO₂/SrTiO₃ interfaces using coherent acoustic phonon interferometry

著者 (7件)： YAROTSKI Dmitry (Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  FU Engang (Materials Sci. and Technol. Div., Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  YAN Li (Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  JIA Quanxi (Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  WANG Yongqiang (Materials Sci. and Technol. Div., Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  TAYLOR Antoinette J. (Center for Integrated Nanotechnologies, Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA) ,  UBERUAGA Blas P. (Materials Sci. and Technol. Div., Los Alamos National Lab., Los Alamos, New Mexico 87545, USA)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 100  号： 25  ページ： 251603-251603-3  発行年： 2012年06月18日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： TiO₂/SrTiO₃界面付近の照射損傷分布を,超高速コヒーレント音響フォノン干渉測定を用いて特性化した。アナターゼ型TiO₂の光学的性質と機械的性質は0.1~5dpa(変位/原子)範囲では照射損傷に影響されなかったが,光学応答の劣化は0.1dpaでSrTiO₃の界面領域における有意な欠陥蓄積と,それに続く3dpaにおけるアモルファス化を示唆した。理論シミュレーションと実験結果を比較し,ピーク損傷レベルが3及び5dpaの照射SrTiO₃層中の音速がほぼ1/3へ低下することを明らかにした。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フォノン ,  干渉測定 ,  *酸化チタン ,  チタン酸ストロンチウム ,  強誘電体 ,  誘電体薄膜 ,  *照射損傷 ,  音速 ,  界面 ,  応答 ,  計算機シミュレーション ,  アモルファス化
準シソーラス用語： *二酸化チタン ,  *音響フォノン ,  固固界面 ,  光学応答

分類 (1件)： その他の物質の放射線による構造と物性の変化  (BK16124V)

タイトルに関連する用語 (7件)： コヒーレント ,  音響フォノン ,  干渉測定 ,  TiO2 ,  界面 ,  照射損傷 ,  分布