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J-GLOBAL ID：201202214363832307   整理番号：12A1500223

電気パルス処理下の冷間圧延Cuストリップの特性,ミクロ構造,および組織の変化

Properties, microstructure and texture evolution of cold rolled Cu strips under electropulsing treatment

著者 (8件)： ZHU R.f. (Advanced Materials Inst., Graduate School at Shenzhen, Tsinghua Univ., Shenzhen 518055, CHN) ,  ZHU R.f. (Key Lab. for Advanced Materials of Ministry of Education, Dep. of Materials Sci. and Engineering, Tsinghua Univ. ...) ,  LIU J.n. (Advanced Materials Inst., Graduate School at Shenzhen, Tsinghua Univ., Shenzhen 518055, CHN) ,  LIU J.n. (Key Lab. for Advanced Materials of Ministry of Education, Dep. of Materials Sci. and Engineering, Tsinghua Univ. ...) ,  TANG G.y. (Advanced Materials Inst., Graduate School at Shenzhen, Tsinghua Univ., Shenzhen 518055, CHN) ,  TANG G.y. (Key Lab. for Advanced Materials of Ministry of Education, Dep. of Materials Sci. and Engineering, Tsinghua Univ. ...) ,  SHI S.q. (Dep. of Mechanical Engineering, The Hong Kong Polytechnic Univ., Hung Hom, Kowloon, Hong Kong, CHN) ,  FU M.w. (Dep. of Mechanical Engineering, The Hong Kong Polytechnic Univ., Hung Hom, Kowloon, Hong Kong, CHN)
資料名： Journal of Alloys and Compounds  (Journal of Alloys and Compounds)
巻： 544  ページ： 203-208  発行年： 2012年12月15日 
JST資料番号： D0083A  ISSN： 0925-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 電子後方散乱回折(EBSD)で冷間圧延Cuストリップの特性,ミクロ構造およびテキスチャーに及ぼす電気パルス処理(EPT)の影響を調査した。得られた結果によると,600Hzを除き電気パルスの周波数の増加にしたがって,Cuストリップの延びは増加したが,ビッカーズ硬度と電気抵抗は低下した。粒径は電気パルスの周波数の増加とともに増加した。400HzのEPTでコインシデンス格子(CSL)と双晶の頻度は最大に達した。さらに,EPTによって引き起こされたミクロ構造の変化でP{011}<12-2>方位が強くなり,S{123}<63-4>とBs{110}<1-12>のテキスチャー成分含有量が弱くなった。電気パルス下の冷間変形したCuの双晶形成と結晶化の機構を提案した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *銅 ,  帯板 ,  *冷間圧延 ,  パルス ,  *圧延組織 ,  押込硬さ ,  粒径 ,  周波数依存性 ,  コインシデンス格子 ,  結晶化 ,  電気抵抗率 ,  変形双晶
準シソーラス用語： Vickers硬度 ,  *電気パルス

分類 (2件)： 圧延技術  (WC06030Z) ,  変態組織,加工組織  (WB01030N)

タイトルに関連する用語 (6件)： 電気パルス ,  冷間圧延 ,  Cu ,  ストリップ ,  ミクロ構造 ,  組織