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J-GLOBAL ID:201202214414285217   整理番号:12A0413851

Al-Cu-Si(アルミニウム-銅-けい素)

Al-Cu-Si (Aluminum-Copper-Silicon)
著者 (1件):
資料名:
巻: 33  号:ページ: 59-61  発行年: 2012年02月 
JST資料番号: C0335D  ISSN: 1547-7037  CODEN: JPEDAV  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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2012年Ponweiserは高純度金属をアーク溶解,700°Cと500°C焼鈍後水焼入れした試料について光学顕微鏡観察,X線回折,電子プローブマイクロ解析を行った。Ponによる500°C高温断面状態図は2009年Ragのそれと異なり,両者並列表示した。Cu-Si2元系のε相は500°Cにて安定である。同系のκ相はAlにより安定化し3元相として固溶範囲を示している。2009年Ria報告の3元相τは2012年Ponの報告にはないが,700°Cではかなりの固溶範囲を持って存在している。熱力学的解析に基づいて40原子%Siにおける60Cu40Si-60Al40Si垂直断面状態図を示した。
シソーラス用語:
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分類 (1件):
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金属系の相平衡・状態図 
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