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J-GLOBAL ID：201202214696612720   整理番号：12A0858435

調節しうる粗度を持つ基質上のコンビナトリアルブロックコポリマの配向

Combinatorial Block Copolymer Ordering on Tunable Rough Substrates

著者 (4件)： KULKARNI Manish M. (Univ. Akron, Ohio, USA) ,  YAGER Kevin G. (Brookhaven National Lab., New York, USA) ,  SHARMA Ashutosh (Indian Inst. of Technol., UP, IND) ,  KARIM Alamgir (Univ. Akron, Ohio, USA)
資料名： Macromolecules  (Macromolecules)
巻： 45  号： 10  ページ： 4303-4314  発行年： 2012年05月22日 
JST資料番号： B0952A  ISSN： 0024-9297  CODEN： MAMOBX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： シリンダ状ブロックコポリマ(BCP)フィルムは高密度データ貯蔵に使用されている。ラメラ状BCPのブロックは基質を濡らし,ラメラの大部分が基質に水平に配向するのでラメラ状BCPの開発が求められている。シリカナノ粒子分散液を磨いたシリコンウエハ上にスピンコートして表面積の80%をシリカナノ粒子(直径20nm)で被覆した。触媒濃度とゾルエージング時間を調節するゾル-ゲルプロセスと基質のUV-オゾン照射で,ウエハ上にスピンコートしたシリカキセロゲルフィルム(厚み2~3μm)の界面エネルギ(γ_S)を29~53mJ/m²に,粗度(R)を0.5~30nmに調節した。PS-PMMAブロックコポリマのトルエン溶液をUVO照射基質に流延法でコーティングした。BCPフィルム厚み35~70nmで高い表面フラクタル次元(D_f>2.4)を持ち,γ_S~29mJ/m²で100%垂直配向ラメラミクロドメインが得られた。

シソーラス用語： *キセロゲル ,  表面エネルギー ,  *粗度 ,  フラクタル次元 ,  ミクロドメイン ,  原子間力顕微鏡 ,  *ポリスチレン ,  *ポリメタクリル酸メチル ,  *ブロック共重合体 ,  分子配向 ,  オゾン処理 ,  紫外線照射 ,  協力作用 ,  パワースペクトル密度
準シソーラス用語： ナノシリカ ,  ブロックコポリマ ,  界面エネルギー

分類 (2件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 調節 ,  粗度 ,  基質 ,  配向