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J-GLOBAL ID：201202216712113006   整理番号：12A1288886

(TiVCrZrHf)N被膜の構造と機械的特性に与える基板バイアスの影響

Effects of substrate bias on structure and mechanical properties of (TiVCrZrHf)N coatings

著者 (6件)： TSAI Du-cheng (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan) ,  LIANG Shih-chang (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan) ,  CHANG Zue-chin (Dep. of Mechanical Engineering, National Chin-Yi Univ. of Technol., Taichung 41170, Taiwan) ,  LIN Tai-nan (Chemical Engineering Div., Inst. of Nuclear Energy Res., Taoyuan County, 32546, Taiwan) ,  SHIAO Ming-hua (Instrument Technol. Res. Center, National Applied Res. Laboratories, Hsinchu, 300, Taiwan) ,  SHIEU Fuh-sheng (Dep. of Materials Sci. and Engineering, National Chung Hsing Univ., Taichung 40227, Taiwan)
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 207  ページ： 293-299  発行年： 2012年08月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： (TiVCrZrHf)N被膜を反応性高周波(RF)マグネトロンスパッタリングにより,異なる基板バイアス(0から200V)において堆積した。被膜の化学組成,微細構造および機械的特性を調べた。基板バイアスが大きくなると,(TiVCrZrHf)N被膜の優先配向が(111)から(200)に変化した。また,小さくなった粒サイズと表面粗さが観察された。微細構造は,明瞭なファセットを有する表面の特徴を有するV型柱状晶から大変平坦な表面を持つ非常に緻密な構造へと明瞭に変化した。さらに,ランダム配向のナノ粒から面心立方(FCC)相を持つカラムへの連続的な変化が明白であった。100Vあるいはそれ以上で堆積した被膜の硬度は約32~33GPaであった。被膜の構造変化と強化機構についても考察した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 基板 ,  ウエハ【IC】 ,  ケイ素 ,  *マグネトロンスパッタリング ,  ターゲット ,  *チタン合金 ,  バナジウム含有合金 ,  クロム含有合金 ,  ジルコニウム含有合金 ,  ハフニウム含有合金 ,  *反応性スパッタリング ,  アルゴン ,  窒素 ,  混合気体 ,  スパッタ蒸着 ,  *窒化物 ,  *セラミック被覆 ,  *セラミック膜 ,  電圧 ,  バイアス ,  微細構造 ,  *機械的性質 ,  化学組成 ,  硬度
準シソーラス用語： Siウエハ ,  *バイアス電圧 ,  機械的特性

分類 (3件)： 金属材料へのセラミック被覆  (YC02050V) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G) ,  固体の機械的性質一般  (BL01021C)

タイトルに関連する用語 (3件)： 被膜 ,  機械的特性 ,  基板バイアス