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J-GLOBAL ID：201202216978110550   整理番号：12A0790647

テンプレートイオンとしてAs(III)を有するキトサン樹脂上へのAs(III)の吸着挙動

Adsorption Behavior of As(III) onto Chitosan Resin with As(III) as Template Ions

著者 (6件)： LIU Bingjie (Ocean Univ. China, Qingdao, CHN) ,  LV Xin (Ocean Univ. China, Qingdao, CHN) ,  WANG Dongfeng (Ocean Univ. China, Qingdao, CHN) ,  XU Ying (Ocean Univ. China, Qingdao, CHN) ,  ZHANG Li (Ocean Univ. China, Qingdao, CHN) ,  LI Yujin (Ocean Univ. China, Qingdao, CHN)
資料名： Journal of Applied Polymer Science  (Journal of Applied Polymer Science)
巻： 125  号： 1  ページ： 246-253  発行年： 2012年07月05日 
JST資料番号： C0467A  ISSN： 0021-8995  CODEN： JAPNAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： As(III)をインプリントしたキトサン樹脂(ICR)を調製し,As-ICRへのAs(III)の吸着特性と機構をFTIR,X線回折,DSCで解析した。キトサン分子鎖上のアミノ基とヒドロキシル基が配位部位として働いた。最大吸着容量はpH6.0,40°Cにおいて2.16mg/gで,その機構は擬似二次反応速度モデルとLangmuir等温吸着モデルに従った。As(III)イオンに対する選択性が観測され,As-ICRは水溶液からAs(III)イオンを効率的に除去,回収する手法として有望であると考えられる。また20%以下の再生ロスで5回再使用できることを確認した。これは飲料水からのAs除去法として期待できる手法である。

シソーラス用語： *ヒ素化合物 ,  *カチオン ,  *機能性高分子 ,  *刷込 ,  *鋳型反応 ,  *キトサン ,  アミノ基 ,  FTIR分光法 ,  容量 ,  *吸着 ,  化学反応 ,  モデル ,  吸着等温式 ,  分子認識 ,  吸着剤 ,  用水処理 ,  再利用 ,  水溶液 ,  ヒドロキシ基
準シソーラス用語： ヒドロキシル基 ,  Langmuir吸着等温式 ,  *テンプレート【鋳型反応】 ,  吸着容量 ,  反応速度モデル ,  *分子刷込高分子 ,  二次反応

分類 (2件)： 高分子担体・触媒反応  (CG03030W) ,  高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

タイトルに関連する用語 (5件)： テンプレート ,  イオン ,  キトサン ,  吸着 ,  挙動