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J-GLOBAL ID：201202217074704588   整理番号：12A0616999

大型ヘリカル装置においてさまざまなプラズマパラメータ領域において磁場リプルによって生じたビームイオン損失

Beam Ion Losses Caused by Magnetic Field Ripples in Various Plasma Parameter Ranges in the Large Helical Device

著者 (4件)： OGAWA Kunihiro (Graduate School of Engineering, Nagoya Univ., Nagoya 464-8603, JPN) ,  ISOBE Mitsutaka (National Inst. for Fusion Sci., 322-6 Oroshi-cho, Toki 509-5292, JPN) ,  TOI Kazuo (National Inst. for Fusion Sci., 322-6 Oroshi-cho, Toki 509-5292, JPN) ,  LHD EXPERIMENT GROUP (National Inst. for Fusion Sci., 322-6 Oroshi-cho, Toki 509-5292, JPN)
資料名： Plasma and Fusion Research (Web)  (Plasma and Fusion Research (Web))
巻： 7  ページ： 2402014-2402014 (J-STAGE)  発行年： 2012年 
JST資料番号： U0045A  ISSN： 1880-6821  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 大型ヘリカル装置(LHD)プラズマにおいて磁場リプルまたはCoulomb衝突で生じたビームイオン損失をシンチレータベース損失イオンプローブ(SLIP)を用いて測定した。ビームイオン損失のジャイロ半径とピッチ角分布及びSLIPに到達する全ビーム損失をさまざまなプラズマパラメータ領域で測定した。相対的に高トロイダル磁場強度で,大部分の損失イオンビームのピッチ角が50度~60度であることをSLIPが明らかにした。SLIPに到達したビームイオン損失は線平均電子密度の変化に依存した。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ヘリオトロン ,  *プラズマ診断 ,  角分布 ,  電子密度 ,  プラズマ密度 ,  密度依存性 ,  イオンプローブ ,  トロイダル磁場 ,  磁場効果
準シソーラス用語： Coulomb衝突 ,  ピッチ角分布 ,  磁場リプル ,  磁場強度 ,  大型ヘリカル装置

分類 (1件)： プラズマ診断  (BJ02090L)

タイトルに関連する用語 (6件)： 大型ヘリカル装置 ,  プラズマパラメータ ,  磁場 ,  リプル ,  ビーム ,  イオン損失