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J-GLOBAL ID：201202217189330568   整理番号：12A1216950

誘導自己組織化用高χブロック共重合体に関する調査:PS-b-PHOSTの合成と特性化

Investigation of High χ Block Copolymers for Directed Self-Assembly: Synthesis and Characterization of PS-b-PHOST

著者 (7件)： JARNAGIN Nathan D. (Georgia Inst. Technol., GA) ,  CHENG Jing (Georgia Inst. Technol., GA) ,  PETERS Andrew (Georgia Inst. Technol., GA) ,  YEH Wei-Ming (Georgia Inst. Technol., GA) ,  LAWSON Richard A. (Georgia Inst. Technol., GA) ,  TOLBERT Laren M. (Georgia Inst. Technol., GA) ,  HENDERSON L. (Georgia Inst. Technol., GA)
資料名： Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)
巻： 8323  ページ： 832310.1-832310.9  発行年： 2012年 
JST資料番号： D0943A  ISSN： 0277-786X  CODEN： PSISDG  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 誘導自己組織化(DSA)用高χブロック共重合体(BCP)ポリスチレン-b-ポリヒドロキシスチレン(PHOST)を合成し,特性化した。広範な水素結合網を形成するPHOSTを選び,PS-b-PHOSTの自己組織化ラメラはフィンガプリントパターン(FPP)を形成することを示した。スピンコート20nm厚PS-b-PHOSTをアセトンで焼鈍し,垂直指向性ラメラFPPを得た。また,グラフォエピタクシーによってラメラパターンDSAを実証した。

シソーラス用語： *ブロック共重合体 ,  *自己組織化 ,  ポリスチレン ,  化学合成 ,  キャラクタリゼーション ,  ラメラ ,  スピンコーティング ,  *フォトレジスト ,  パターン形成 ,  Flory-Huggins理論 ,  相互作用 ,  エピタクシー
準シソーラス用語： グラフォエピタクシー ,  ポリヒドロキシスチレン

分類 (1件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (6件)： 誘導 ,  自己組織化 ,  ブロック共重合体 ,  調査 ,  PS ,  特性化