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J-GLOBAL ID:201202218158363030   整理番号:12A1515466

安定なSi6R6異性体のシリコン足場の収縮と膨張

Contraction and Expansion of the Silicon Scaffold of Stable Si6R6 Isomers
著者 (8件):
資料名:
巻: 134  号: 38  ページ: 16008-16016  発行年: 2012年09月26日 
JST資料番号: C0254A  ISSN: 0002-7863  CODEN: JACSAT  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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不飽和な分子状シリコンクラスタを”siliconoids”(”シリコノイド”)と簡単化の為呼ぶことにする。1,1,2-トリクロロシクロトリシラン誘導体の還元によって容易に合成された表記された非対称性置換パターン(Si,SiRとSiR2の頂点を含む)を有する二つの構造異性体化合物(4,5)(R=2,4,6-イソプロピル置換フェニル基)の反応性(クラスタ膨張を含む)について調べた。1,1,2-トリクロロシクロトリシラン誘導体は熱処理によって起きた置換基の再分配により1,2,3-誘導体へと変換した後,必須な還元的カップリング反応に依りヘキサシラプリズマンへと誘導された。他方安定な膨張したSi11シリコノイドは4から5への熱異性化の劣勢な副産物として単離された。シリコノイド足場のクラスタの酸化的収縮としてシリコノイド5をリフラックストルエン中で大過剰ヨウ素と処理することによりヘキサヨードシクロペンタシランへと誘導された。逆にCl2の温和な供給源としてBiCl3を使った異性体4の塩素化は未置換頂点と同時に4のクラスタ骨格のσ結合の塩素化により複雑な混合生成物となった。この混合生成物の中で主生成物,1,2-ジクロルトリシクロ[2.2.0.02,5]ヘキサシラン(12)は熱的クラスタ収縮を受けて多面体外にクロロシリル基を有するトリシクロ[2.1.0.02,5]ペンタシラン(14)を与えた。
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分類 (3件):
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有機けい素化合物  ,  環化反応,開環反応  ,  転位反応,異性化 
物質索引 (8件):
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タイトルに関連する用語 (5件):
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