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J-GLOBAL ID：201202218223048881   整理番号：12A0266179

ホログラフィック記録のための亀裂なし光重合性石英ガラスの簡易ゾル・ゲル法合成

A facile sol-gel synthesis of crack-free photopolymerizable silica for holographic recording

著者 (3件)： KUO Cho-yo ,  HSU Tzu-chien ,  SU Wei-hung
資料名： Journal of Non-Crystalline Solids  (Journal of Non-Crystalline Solids)
巻： 358  号： 4  ページ： 735-740  発行年： 2012年02月15日 
JST資料番号： D0642A  ISSN： 0022-3093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 照射段階の間に被られた亀裂問題を克服するための簡易化学的デザインの試みによって,ホログラフィ記録のためのゾル・ゲル法を用いた光重合性石英ガラスを合成した。ホログラフィの複合材料は,終端がとざされた水酸基を有する低分子量のポリジメチルシロキサン(PDMS),エポキシドを含むカップリングエージェント,光重合性アクリレート単量体およびゾル・ゲル法で引き出されたシリカマトリックスを含む。PDMSの含有物は,回折効率(η)の劣化なしで,オリジナルの非修飾の試料に対して改良された圧縮応力と歪および強度を提供する。5.02mWのビームパワー下でη~40%のプラトー値を見つけることができた。アクリレート重合体の分子量とホログラフィの複合材料のηとの相関関係を報告し,そして,相違点を解析する。ホログラフィのシステムでのポリマー化の時期尚早な飽和はシリカマトリックス中の発達の遅い遊離基ポリマー化の結果と考えられる。光重合開始剤の濃度に伴うηの小さい方の変化が観察され,適度の分子量だけがかなり高いηに対して必要であることを示した。材料系中の化学的・物理的な相互作用に基づいて,無亀裂のメカニズムを解明した。最終的に,ホログラフィのメディアへの残りの光重合開始剤の悪影響について記述した。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *ゾル-ゲル法 ,  *石英ガラス ,  光重合 ,  亀裂 ,  *ホログラム記録 ,  ポリジメチルシロキサン ,  機械的性質 ,  特性 ,  引張強さ ,  回折効率 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  PDMS【重合体】 ,  引張特性

分類 (3件)： ガラスの製造  (YC02020O) ,  ホログラフィーの応用  (BD03074U) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

物質索引 (1件)： TEOS

タイトルに関連する用語 (6件)： ホログラフィック記録 ,  亀裂 ,  光重合 ,  石英ガラス ,  簡易 ,  ゾル・ゲル法