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J-GLOBAL ID：201202218738519771   整理番号：12A0343228

含浸溶液へのグリコール添加によるCo/SiO₂ Fischer-Tropsch合成触媒におけるCo₃O₄ナノ粒子の分散増強機構

Mechanism for enhancing dispersion of Co₃O₄ nanoparticles in Co/SiO₂ Fischer-Tropsch synthesis catalyst by adding glycol to impregnating solution: a quick-XAFS study

著者 (7件)： KOIZUMI Naoto (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SUZUKI Shigenobu (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  IBI Yukiya (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HAYASAKA Yasuhiko (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  HAMABE Yusuke (Tohoku Univ., Sendai, JPN) ,  SHINDO Takayoshi (Akita Univ., Akita, JPN) ,  YAMADA Muneyoshi (Akita National Coll. Technol., Akita, JPN)
資料名： Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)
巻： 19  号： 1  ページ： 74-83  発行年： 2012年01月 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 触媒調製の各工程(含浸,乾燥,仮焼)において形成されるCoの配位構造と含浸溶液へのグリコール添加が配位構造に及ぼす影響をex situ及びin situ Co-K吸収端XAFSにより調べた。仮焼時のCoの配位構造の変化はその場QXAFSとTPOを組合せて連続監視し,含浸結晶と乾燥結晶中のCo配位構造はex situ XAFSを用いて調べた。これらのEXAFSデータに基づいて,仮焼触媒中のCo₃O₄ナノ粒子の分散増強機構を論じた。

シソーラス用語： 含浸 ,  溶液 ,  *触媒 ,  *Fischer-Tropsch合成 ,  酸化コバルト ,  *ナノ粒子 ,  XAFS ,  か焼 ,  分子構造 ,  分散【dispersion】 ,  コバルト ,  二酸化ケイ素 ,  触媒調製 ,  脂肪族アルコール ,  ジオール
準シソーラス用語： 含浸溶液 ,  配位構造

分類 (1件)： 触媒の調製  (CB06110P)

物質索引 (1件)： グリコール

タイトルに関連する用語 (8件)： 含浸溶液 ,  グリコール ,  CO ,  SiO2 ,  Fischer-Tropsch合成 ,  触媒 ,  ナノ粒子 ,  増強