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J-GLOBAL ID：201202218958582261   整理番号：12A0722576

マイクロ圧力測定のためのビーム-膜構造センサの設計と解析

The design and analysis of beam-membrane structure sensors for micro-pressure measurement

著者 (4件)： TIAN Bian (The State Key Lab. for Mechanical Manufacturing System, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, Shannxi 710049, CHN) ,  ZHAO Yulong (The State Key Lab. for Mechanical Manufacturing System, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, Shannxi 710049, CHN) ,  JIANG Zhuangde (The State Key Lab. for Mechanical Manufacturing System, Xi’an Jiaotong Univ., Xi’an, Shannxi 710049, CHN) ,  HU Bin (DongFang Electric Corp. R&D Center Electric Power Design Inst., Chengdu, Sichuan 611731, CHN)
資料名： Review of Scientific Instruments  (Review of Scientific Instruments)
巻： 83  号： 4  ページ： 045003-045003-8  発行年： 2012年04月 
JST資料番号： D0517A  ISSN： 0034-6748  CODEN： RSINAK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本論文は,交差したビーム-膜(CBM)構造を持つマイクロ圧力測定のための圧電抵抗型圧力センサの設計と解析について報告する。この新しいシリコン基板を用いたセンサは,ミニチュア構造の利点,高い感度と線形性と精度を持っている。有限要素法を用いて応力分布を解析し,構造の大きさと機械的性能の間の関係を導くことによって,CBM構造を決定するために使われる方程式を確立した。CBMモデルおよび著者らが導出した応力と変形の方程式に基づいて,異方性化学エッチングと誘導結合プラズマを含むプロセスを介して,シリコン基板上にセンサを作製した。本構造が示す線形性,感度,再現性などのような性能を5kPaの圧力下で調べた。本結果から,これらの式の精度は±0.19%FSであることがわかった。これは,この新しい小型の構造によって,マイクロ圧力測定のための高感度で高精度なセンサを簡単に作製できることを示している。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *圧力センサ ,  *ビーム ,  *膜構造 ,  圧電素子 ,  ウエハ【IC】 ,  有限要素法 ,  応力分布 ,  半導体
準シソーラス用語： 圧電抵抗素子 ,  シリコン基板

分類 (1件)： 力,仕事量,圧力,摩擦の計測法・機器  (AD05050V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 圧力測定 ,  ビーム ,  膜構造 ,  設計 ,  解析