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J-GLOBAL ID：201202219004127845   整理番号：12A0611581

ナノスケール歪測定のためのモアレ干渉計の近視野モデリング

Near field modeling of the Moire interferometer for nanoscale strain measurement

著者 (2件)： CHEN Bicheng (Electronic Packaging Lab., State Univ. of New York at Buffalo, 102 Ketter Hall, Buffalo, NY 14260, USA) ,  BASARAN Cemal (Electronic Packaging Lab., State Univ. of New York at Buffalo, 102 Ketter Hall, Buffalo, NY 14260, USA)
資料名： Optics and Lasers in Engineering  (Optics and Lasers in Engineering)
巻： 50  号： 7  ページ： 976-984  発行年： 2012年07月 
JST資料番号： A0602B  ISSN： 0143-8166  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本研究では,厳密電磁(EM)理論を利用して,モアレ干渉(MI)測定で利用される基本的な仮定を検証するために,新しい方法を提案した。回折格子表面上の数ミクロン領域でEM場をシミュレーションした。ナノスケール解像度のMI測定精度を実現するには,EM場の空間周波数が歪場の空間周波数に整合することの証明が重要であった。周期回折格子上の変化として欠陥を導入して,歪回折格子構造のEMシミュレーションを実行した。連続ウェーブレット変換(CWT)アルゴリズムを利用して,シミュレーションEM場の空間周波数を定量化した。この結果を歪場と比較し,その相関を示した。ナノスケールでのEM場と歪場の間で,空間周波数応答の強い相関(相関因子R=0.869)があることを示した。ナノスケール歪測定で通常のMI仮定を利用すると,誤差が2.7%程度になった。この方法を利用して,測定誤差の許容範囲で,MI測定をナノスケール歪測定に利用できることを実証した。この方法は,MI装置設計の評価を促進し,測定性能を増強する。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *干渉計 ,  *モアレ ,  *歪測定 ,  ナノ構造 ,  近接場 ,  モデリング ,  ウェーブレット変換 ,  シミュレーション ,  アルゴリズム ,  空間周波数 ,  周波数応答 ,  格子構造 ,  測定誤差
準シソーラス用語： *モアレ干渉計 ,  近視野 ,  装置設計

分類 (1件)： 干渉測定と干渉計  (BD07070G)

タイトルに関連する用語 (6件)： ナノスケール ,  歪測定 ,  モアレ ,  干渉計 ,  近視野 ,  モデリング