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J-GLOBAL ID：201202219095624706   整理番号：12A0956093

転写捺染法により生成した溶液処理酸化グラフェンパターン

Patterns of Solution-Processed Graphene Oxide Produced by a Transfer Printing Method

著者 (3件)： CHANG C. W. (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  HON M. H. (National Cheng Kung Univ., Tainan, TWN) ,  LEU I. C. (National Univ. Tainan, Tainan, TWN)
資料名： Journal of the Electrochemical Society  (Journal of the Electrochemical Society)
巻： 159  号： 6  ページ： H605-H609  発行年： 2012年 
JST資料番号： C0285A  ISSN： 1945-7111  CODEN： JESOAN  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本報では,酸素含有官能性GO(酸化グラフェン)の自然帯電特性を利用する簡単な全水溶液転写捺染法(前処理基板支援による還元過程の実施前に溶液処理GOパターンを明確にする)を示した。Hummer法を用い調製したGOの自然帯電を利用し,ポリエチレンイミン(PEI)溶液に事前浸漬したSi/SiO基板上へGOをパターン化した。帯電GOをPDMS(ポリジメチルシロキサン)型上へスピンコーティングし,転写捺染法によりマスク無しパターン化を実現した。得られた捺染GOパターンの特徴サイズは20~90μmで,転写捺染領域は2cm×2cmに達した。また転写過程の機構を検討したが,GO上帯電官能基とPEI分子間相互作用に加え,PDMS-GOシートと基板GOシート間界面の非特異性接着の異なる強さに依存した。Ramanスペクトル/マッピングは,領域選択性パターン化結果を示すのに加え,GOパターンの連続性も示した。最後に,本法を利用しガラス基板上GOパターン化を容易にし,熱処理によりGOパターンを還元型GOに変換した。

シソーラス用語： *転写捺染 ,  *酸化物 ,  基 ,  酸素 ,  帯電 ,  ポリエチレンイミン ,  浸漬 ,  *パターン形成 ,  ポリジメチルシロキサン ,  スピンコーティング ,  分子間相互作用 ,  接着強さ ,  Ramanスペクトル ,  写像 ,  連続性
準シソーラス用語： *酸化グラフェン ,  官能基 ,  自然性 ,  マッピング

分類 (2件)： 炭素とその化合物  (YB02060D) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (3件)： 転写捺染 ,  溶液処理 ,  酸化グラフェン