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J-GLOBAL ID：201202219420212975   整理番号：12A0124478

Ta-Si-N 薄膜バリア層の熱的安定性におけるN CONTENTの影響

EFFECT OF N CONTENT ON THE THERMAL STABILITY OF Ta-Si-N THIN FILM BARRIER LAYER

著者 (5件)： ZHOU Jicheng (Central South Univ., Chang Sha, CHN) ,  LIU Zheng (Central South Univ., Chang Sha, CHN) ,  ZHENG Xuqiang (Central South Univ., Chang Sha, CHN) ,  LI Youzhen (Central South Univ., Chang Sha, CHN) ,  LUO Ditian (Central South Univ., Chang Sha, CHN)
資料名： International Journal of Modern Physics B. Condensed Matter Physics, Statiscal Physics, Applied Physics  (International Journal of Modern Physics B. Condensed Matter Physics, Statiscal Physics, Applied Physics)
巻： 24  号： 30  ページ： 5867-5875  発行年： 2010年12月10日 
JST資料番号： T0396A  ISSN： 0217-9792  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： シンガポール (SGP)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (3件)： 薄膜 ,  バリア層 ,  熱的安定性