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J-GLOBAL ID：201202221121307220   整理番号：12A0405955

アライメントされたX線リソグラフィーによる多層高分子ミクロ構造の製作

Fabrication Multi-layer Polymer Microstructures by X-ray Lithography with Alignment

著者 (2件)： LI Yigui (Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN) ,  SUGIYAMA Susumu (Ritsumeikan Univ., Shiga, JPN)
資料名： Materials Science Forum  (Materials Science Forum)
巻： 663/665  号： Pt.2  ページ： 1016-1019  発行年： 2010年 
JST資料番号： D0716B  ISSN： 0255-5476  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： スイス (CHE)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (6件)： アライメント ,  X線リソグラフィー ,  多層 ,  高分子 ,  ミクロ構造 ,  製作