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J-GLOBAL ID:201202221316443439   整理番号:12A0726730

高分散沈降シリカのモルフォロジー 乾燥及び超音波処理の影響

Morphology of Highly Dispersing Precipitated Silica: Impact of Drying and Sonication
著者 (3件):
資料名:
巻: 22  号:ページ: 617-623  発行年: 2012年05月 
JST資料番号: W0462A  ISSN: 1574-1443  CODEN: JIOPE4  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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光及びX線散乱を用い,二個の市販沈降シリカ(Zeosil 1165及びUltrasil 7005)並びに発生的沈降シリカ(Dimosil 288)の構造を調べた。3種類全ての製品は,一次粒子,凝集体,硬質凝集体と軟質凝集体とから成る四水準階層構造を持っていた。その中で,Dimosil 288は最も明確な四水準構造を示した。Dimosil 288の超音波処理及び乾燥手順の影響を,光散乱で調べた。大寸法軟質凝集体を例外として,水性懸濁液の超音波処理の下で,全ての水準構造は頑健であった。超音波処理は軟質凝集体を破砕し,慣性半径がおよそ11μの硬質凝集体をもたらした。乾燥は軟質凝集体を硬化させる重要な役割を果たした。製品を全く乾燥させないと,超音波処理によって凝集体寸法は3.5μに減少し,硬質凝集体の寸法に等しくなった。乾燥してない製品中に3.5μ以上の凝集体が存在するけれども,それらは脆い。室温乾燥に比べ150°Cで乾燥するときに,大寸法凝集体はかろうじて頑健である。これらシリカを充填したゴムの機械的性質は同一であるので,脆い大寸法軟質凝集体を伴う四水準構造が,高分散シリカ製品の特徴である。Copyright 2011 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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その他の無機工業薬品,無機材料  ,  高分子固体の構造と形態学 
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