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J-GLOBAL ID：201202221351647934   整理番号：12A0334438

化学修飾グラフェン上におけるDNAのorigamiナノパターン形成

DNA Origami Nanopatterning on Chemically Modified Graphene

著者 (8件)： YUN Je Moon (KAIST, Daejeon, KOR) ,  KIM Kyoung Nan (Univ. Notre Dame, IN, USA) ,  KIM Ju Young (KAIST, Daejeon, KOR) ,  SHIN Dong Ok (KAIST, Daejeon, KOR) ,  LEE Won Jun (KAIST, Daejeon, KOR) ,  LEE Sun Hwa (KAIST, Daejeon, KOR) ,  LIEBERMAN Marya (Univ. Notre Dame, IN, USA) ,  KIM Sang Ouk (KAIST, Daejeon, KOR)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 51  号： 4  ページ： 912-915  発行年： 2012年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： グラフェンオキシド(GO)は溶液処理が可能で,光照射によってパターン形成ができ,化学修飾も容易である。GOのこのような特長を利用し,化学修飾グラフェンのパターン化膜を作製した。最初にNH₂-末端アミノプロピルトリメトキシシラン(APTS)の自己組織化単分子膜で修飾したシリコン上に水溶液からのスピンキャスト法を用いてGO膜を作製した。これを180°Cで加熱することにより,GO膜をアミド結合を介して共有結合した。このGO膜を通常の深UV光を用いたフォトリソグラフィー法により厚さ約2.7nm,幅約400nmの縞状パターン化した。パターン化GO膜をH₂流中またはH₂/NH₃流中で熱的に還元することにより,パターン化還元GO(rGO)膜あるいは窒素ドープ還元GO(NrGO)膜に転換した。最後に,これらのグラフェン主体のパターン化膜上にDNA origami構造を選択吸着した。原子間力顕微鏡観測及びX線光電子スペクトル測定により,DNA origami構造はGO及びNrGO表面にきわめて選択的に吸着することを示した。

シソーラス用語： *酸化物 ,  *炭素材 ,  *パターン形成 ,  フォトリソグラフィー ,  *DNA【核酸】 ,  構造 ,  *グラフェン
準シソーラス用語： *グラフェンオキシド ,  origami構造

分類 (3件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  核酸一般  (EB04010U) ,  炭素とその化合物  (YB02060D)

タイトルに関連する用語 (4件)： 化学修飾 ,  グラフェン ,  DNA ,  ナノパターン形成