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J-GLOBAL ID:201202221458724370   整理番号:12A1038093

カソードチャージング後のリン添加,無酸素銅中の水素の深さ分布

Hydrogen depth profile in phosphorus-doped, oxygen-free copper after cathodic charging
著者 (3件):
資料名:
巻: 47  号: 19  ページ: 6768-6776  発行年: 2012年10月 
JST資料番号: B0722A  ISSN: 0022-2461  CODEN: JMTSAS  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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使用済核燃料は,スウェーデンでは50mm厚の銅キャニスタに入れて岩盤に500メートルの深さで配置する計画である。収納場所の状況に応じて,銅中に水素の取り込みが発生する可能性がある。従って表面とバルクの両方の水素の取り込みが微細構造にどのような影響を与えるかを確立することが必要である。リン添加無酸素銅に最大3週間,水素をカソードチャージした。表面からの距離の関数としての水素の量は,グロー放電発光分光法と融液抽出法2つの方法で測定した。増加した含有水素の浸透は約50μmであった。チャージ中に大規模な気泡の形成が起こった。銅への水素の拡散,気泡の生成および成長モデルを定式化した。モデルは,水素の合計量,気泡の数とその大きさを表面からの距離の関数として記述した。表面に近い泡が,高い水素圧力に起因して表面の膨らみを引き起こした。変形した表面の形状から,最大水素圧力は,応力解析により推定できる。最大圧力は400MPa程度であることが判明した。これは,以前に記録された無電解堆積銅の値よりも概ね一桁大きい。Copyright 2012 Springer Science+Business Media, LLC Translated from English into Japanese by JST.
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分類 (2件):
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放射性廃棄物  ,  その他の金属組織学 
タイトルに関連する用語 (4件):
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