文献

J-GLOBAL ID：201202221688239889   整理番号：12A1315901

熱励起薬物放出に適した準規則化ナノポーラスシリコン薄膜の設計と製作

Design and fabrication of a quasi-ordered nanoporous silicon membrane suitable for thermally induced drug release

著者 (3件)： CHAU Chien Fat (Univ. Southampton, Southampton, GBR) ,  CHAU Chien Fat (Universiti Tenaga Nasional, Selangor, MYS) ,  MELVIN Tracy (Univ. Southampton, Southampton, GBR)
資料名： Journal of Micromechanics and Microengineering  (Journal of Micromechanics and Microengineering)
巻： 22  号： 8  ページ： 085028,1-14  発行年： 2012年08月 
JST資料番号： W1424A  ISSN： 0960-1317  CODEN： JMMIEZ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： MEMSデバイスに集積したナノポーラス構造が熱励起薬物放出用として求められている。本稿では,この目的に適した準規則化ナノポーラスシリコン薄膜の製作法について報告した。500μm厚みシリコン(100)ウエハを材料として,4mm×4mmの50μm厚み部分を作り,その部分にナノスフィアリソグラフィー(NSL)法により均一な直径(105±5nm)で平滑な側壁を持つ深さ~300nmのナノポアーを六方最密充填パターン(最近傍距離200nm)を作製した。代表的な多孔率は31.5%であった。この薄膜の裏面にはヒータと温度センサを作った。これにより熱励起薬物放出が効率よく行える。

シソーラス用語： *MEMS ,  多孔性 ,  ナノ構造 ,  *薬物放出 ,  励起 ,  ケイ素 ,  ウエハ【IC】 ,  リソグラフィー ,  ミクロスフェア ,  空隙率 ,  加熱器 ,  温度センサ ,  結晶構造 ,  充填
準シソーラス用語： シリコン ,  *ナノスフィアリソグラフィー ,  ナノポーラス ,  ヒータ ,  最密充填 ,  多孔率 ,  熱励起

分類 (2件)： 臨床診断学  (GC03003G) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (7件)： 熱励起 ,  薬物放出 ,  規則化 ,  ナノポーラス ,  シリコン薄膜 ,  設計 ,  製作