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J-GLOBAL ID：201202222574841461   整理番号：12A1691999

低エネルギーのイオンを注入されたポリ(メチルメタクリレート)の光学的特性評価

Optical characterization of poly(methyl methacrylate) implanted with low energy ions

著者 (4件)： GUPTA Renu (Dep. of Physics, Kurukshetra Univ., Kurukshetra 136119, IND) ,  KUMAR Vijay (Dep. of Physics, Kurukshetra Univ., Kurukshetra 136119, IND) ,  GOYAL Parveen Kumar (Dep. of Physics, Kurukshetra Univ., Kurukshetra 136119, IND) ,  KUMAR Shyam (Dep. of Physics, Kurukshetra Univ., Kurukshetra 136119, IND)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 263  ページ： 334-338  発行年： 2012年12月15日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリ(メチルメタクリレート)(PMMA)試料を2×10¹⁶イオン/cm²までの最大フルエンスで100keVのN⁺及びAr⁺のイオンを注入した。光学的エネルギーギャップと屈折率に及ぼすイオン注入の効果をUV-可視分光によって研究した。その結果は両方のイオンに対応するイオン注入の結果として光学バンドギャップ値の減少と屈折率の値の増加を明瞭に示した。注入イオンによって誘起された変化はN⁺イオンに対する方がAr⁺に対するよりもより顕著であることも観測された。この変化はStopping and Range of Ions in Matter(SRIM)コードを用いて計算されたPMMA高分子中のこれらのイオンの飛程と相関している。最後に,観測されたすべての変化をRaman分光を通して解明された誘起構造変化に相関付けることを試みた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *イオン注入 ,  ポリメタクリル酸メチル ,  *屈折率 ,  変化 ,  窒素 ,  アルゴン ,  *光学定数 ,  *光学ギャップ ,  *放射線効果 ,  10-100keV ,  放射線フルエンス ,  Ramanスペクトル
準シソーラス用語： *ポリメチルメタクリレート ,  構造変化

分類 (3件)： 放射線高分子化学  (CG03050S) ,  高分子固体の物理的性質  (CG02024U) ,  光物性一般  (BM08010A)

タイトルに関連する用語 (6件)： 低エネルギー ,  イオン ,  注入 ,  メチルメタクリレート ,  光学的特性 ,  評価