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J-GLOBAL ID：201202222754059591   整理番号：12A1422592

ポリイミドとガラス基材の上の無電解Ni-P皮膜ミクロ組織の変化と電気伝導率への,水素プラズマ処理の影響

Effects of hydrogen plasma treatment on microstructure evolution and electrical conductivity of electroless Ni-P coatings on polyimide and glass substrates

著者 (2件)： LIN Jyung-dong ,  KUO Chun-lin
資料名： Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)
巻： 209  ページ： 80-89  発行年： 2012年09月25日 
JST資料番号： D0205C  ISSN： 0257-8972  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ポリイミドとガラスの基材に様々な厚さの無電解Ni-P皮膜を析出し,続いて,空気中での熱処理やマイクロ波支援水素プラズマ処理を施した。X線回折(XRD),走査型電子顕微鏡(SEM),透過型電子顕微鏡(TEM),およびHall効果測定を使用して,ミクロ構造と電気伝導率への,基材と水素プラズマ処理の影響を詳細に調べた。基材はNi-P皮膜の析出速度,粒径,準安定相のタイプ,結晶化度,抵抗率,担体移動性,および担体濃度に影響する可能性があった。また,1分間の600Wの水素プラズマ処理は,析出したままの状態,もしくは300°Cで3hの時間空気中で加熱した後の状態の皮膜と比べて,より均一な,より低い抵抗率の皮膜をもたらすことができた。プラズマ処理後のNi-P皮膜はより高いキャリア移動度を示した。一方,析出状態の皮膜はより高いキャリア濃度を示した。なお,プラズマ処理前には空気中の熱処理はNi-P皮膜の電気伝導率を高めた。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： 母材 ,  *ポリイミド ,  *ガラス ,  *無電解めっき ,  *ニッケル合金 ,  リン含有合金 ,  *めっき皮膜 ,  *金属組織 ,  *電気伝導率 ,  プラズマ ,  水素 ,  *プラズマ処理 ,  Hall効果 ,  キャリア移動度 ,  キャリア密度 ,  ニッケル化合物 ,  硫酸塩 ,  リン酸 ,  カルボン酸塩 ,  合金めっき
準シソーラス用語： キャリア濃度 ,  基材 ,  *水素プラズマ ,  硫酸ニッケル

分類 (2件)： 表面処理  (YH04112X) ,  ガラスの製造  (YC02020O)

物質索引 (1件)： こはく酸ナトリウム

タイトルに関連する用語 (7件)： ポリイミド ,  ガラス ,  電解 ,  Ni-P皮膜 ,  ミクロ組織 ,  電気伝導率 ,  水素プラズマ