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J-GLOBAL ID：201202222861275213   整理番号：12A1465002

明日の産業を支える新洗浄技術 最新の超音波洗浄技術

著者 (1件)： 安井久一 (産業技術総合研 先進製造プロセス研究部門)
資料名： 産業洗浄  (Industrial Cleaning)
号： 10  ページ： 8-13  発行年： 2012年09月30日 
JST資料番号： L7969A  ISSN： 2188-8388  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超音波洗浄の洗浄メカニズムはキャビテーション気泡の物理作用であると考えられている。超音波洗浄の欠点は主に2つあり,1つは洗浄むらで,もうひとつはキャビテーション気泡の物理作用が強すぎて,ダメージ(例えばウェーハ上のパターン倒れ)を引き起こす点である。本稿は,ダメージの低減に着目して,以下の項目に従って最近の研究を紹介した。1)マイクロピットを利用したキャビテーション制御,2)マイクロバブル発生装置の併用,3)ギガヘルツ超音波洗浄の可能性。

シソーラス用語： *超音波洗浄 ,  キャビテーション ,  気泡 ,  超音波照射 ,  *集積回路 ,  *製造 ,  ウエハ【IC】 ,  装置 ,  周波数 ,  単位
準シソーラス用語： キャビテーション気泡 ,  超音波キャビテーション ,  *集積回路製造 ,  シリコンウエハ ,  マイクロバブル発生装置 ,  ギガヘルツ

分類 (2件)： 膜流,液滴,気泡,キャビテーション  (BC02070U) ,  集積回路一般  (NC03161C)

引用文献 (25件)：

• 1) 「半導体LSIのできるまで」編集委員会編著:よくわかる半導体LSIのできるまで(改訂第2版).日刊工業新聞社(2004)
• 2) 西久保靖彦:図解入門よくわかる最新半導体の基本と仕組み(第2版).秀和システム(2011)
• 3) AG Zijlstra: Acoustic Surface Cavitation. PhD thesis,University of Twente, Netherlands (2011)
• 4) 大見忠弘編著:ウェットサイエンスが拓くプロダクトイノベーション.サイペック(2001)
• 5) 垂井康夫編:世界をリードするイノベーター一電子・情報分野の日本人10人-.オーム社(2005)

タイトルに関連する用語 (3件)： 産業 ,  洗浄 ,  超音波洗浄