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J-GLOBAL ID：201202222869563560   整理番号：12A0396332

含水セリウム酸化物ナノ粒子の特別なヒ素吸着性能:A.吸着容量とメカニズム

Exceptional arsenic adsorption performance of hydrous cerium oxide nanoparticles: Part A. Adsorption capacity and mechanism

著者 (5件)： LI Ronghui (Materials Center for Water Purification, Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese ...) ,  LI Qi (Materials Center for Water Purification, Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese ...) ,  GAO Shian (Materials Center for Water Purification, Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese ...) ,  SHANG Jian Ku (Materials Center for Water Purification, Shenyang National Lab. for Materials Sci., Inst. of Metal Res., Chinese ...) ,  SHANG Jian Ku (Dep. of Materials Sci. and Engineering, Univ. of Illinois at Urbana-Champaign, Urbana, IL 61801, USA)
資料名： Chemical Engineering Journal  (Chemical Engineering Journal)
巻： 185-186  ページ： 127-135  発行年： 2012年03月15日 
JST資料番号： D0723A  ISSN： 1385-8947  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 含水セリウム酸化物(HCO)ナノ粒子を簡単な沈殿プロセスで合成し,これらのヒ素吸着性能を研究した。高い比表面積(198m²/g)と高い親和性表面水酸基の為に,HCOナノ粒子は吸着容量と速度の点で例外的なAs(III)とAs(V)の吸着性状を実証した。中性のpHに於いて,HCOのヒ素吸着容量はAs(III)で170mg/g,As(V)で107mg/gに達した。例え非常に低い平衡ヒ素濃度に於いてもHCOナノ粒子に吸着されたAs(III)とAS(v)の量は依然として濃度10μg/Lで13mg/g,50μg/Lで40mg/gで,これは殆どの商用ヒ素吸着容量より高かった。3から11の非常に広いpH範囲でHCOナノ粒子は容易にAs(III)を吸着により除去出来るが,これは他のヒ素吸着材では見られないことである。このようなHCOナノ粒子の例外的なヒ素吸着性状は強い球内錯体化によるものである。Copyright 2012 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *セリウム化合物 ,  *水酸化物 ,  *ナノ粒子 ,  *吸着 ,  *容量 ,  *機構 ,  沈殿 ,  性能評価 ,  比表面積 ,  親和性 ,  動力学 ,  *イオン ,  pH依存性 ,  濃度依存性 ,  吸着剤 ,  *用水処理
準シソーラス用語： *ヒ素イオン ,  *吸着機構 ,  *吸着容量 ,  *水酸化セリウム

分類 (3件)： 吸着,イオン交換  (XD02060I) ,  吸着剤  (YB03000W) ,  用水の物理的処理  (SC02030T)

タイトルに関連する用語 (6件)： セリウム酸化物 ,  ナノ粒子 ,  ヒ素 ,  吸着性能 ,  吸着容量 ,  メカニズム