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J-GLOBAL ID：201202222995301334   整理番号：12A0871304

ID29: 異常散乱を利用した巨大分子結晶学実験用の高強度高度自動化ESRFビームライン

ID29: a high-intensity highly automated ESRF beamline for macromolecular crystallography experiments exploiting anomalous scattering

著者 (18件)： DE SANCTIS Daniele (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  BETEVA Antonia (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  CASEROTTO Hugo (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  DOBIAS Fabien (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  GABADINHO Jose (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  GIRAUD Thierry (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  GOBBO Alexandre (EMBL-Grenoble Outstation, Grenoble, FRA) ,  GUIJARRO Matias (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  LENTINI Mario (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  LAVAULT Bernard (EMBL-Grenoble Outstation, Grenoble, FRA) ,  MAIRS Trevor (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  MCSWEENEY Sean (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  PETITDEMANGE Sebastien (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  REY-BAKAIKOA Vicente (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  SURR John (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  THEVENEAU Pascal (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  LEONARD Gordon A. (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA) ,  MUELLER-DIECKMANN Christoph (European Synchrotron Radiation Facility, Grenoble, FRA)
資料名： Journal of Synchrotron Radiation  (Journal of Synchrotron Radiation)
巻： 19  号： 3  ページ： 455-461  発行年： 2012年05月 
JST資料番号： W0763A  ISSN： 0909-0495  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 欧州シンクロトロン放射施設(ESRF)のビームラインID29はアンジュレータから6.0~20keV(λ=0.062~2.07Å)を発生し,異常分散法を用いた巨大分子結晶学を目的とする。本論文では,ID29のレイアウト,X線源,光学的構成,実験セットアップ(試料環境,高調波排除,検出器,補助技術)を紹介し,将来の改善を展望した。

シソーラス用語： 分子 ,  結晶学 ,  散乱 ,  X線散乱 ,  *シンクロトロン放射 ,  ストレージリング ,  *放射光施設 ,  X線源 ,  *ビームライン
準シソーラス用語： 異常散乱 ,  巨大分子

分類 (1件)： 線源,照射装置  (MC01020V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 散乱 ,  巨大分子 ,  結晶学 ,  実験 ,  高強度 ,  高度 ,  自動化 ,  ビームライン